[发明专利]光刻设备和器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种确定在编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法、使用编码器类型的位置测量系统的位置测量方法以及包括这样的编码器类型的位置测量系统的光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

在已知的光刻设备中，位置传感器被用于测量可移动物体(例如衬底台和图案形成装置支撑件)的位置。所述位置被高精度地测量且通常在多个自由度上被测量。

在台系统中所使用的位置测量系统，例如光刻设备台系统是包括编码器头和网格板的编码器类型的传感器。编码器头包括朝向网格板上的测量位置发射光的光源和用以接收由网格板反射的光的多个检测器。基于由两个或更多个检测器接收到的光之间的相位差，可以确定可移动物体相对于网格板的位置。

这样的编码器类型位置测量系统可以以高精确度和在多个自由度上提供可移动物体的位置。一种编码器头可能能够在一个或更多的自由度上确定位置。编码器系统是两维编码器测量系统，其中编码器头可以在平行于网格板的方向和垂直于网格板的方向上测量其相对于网格板的位置。这样的编码器头中的三个提供了可以在6个自由度上测量可移动物体相对于网格板的位置的系统。

由于网格板的制造工艺，网格或光栅可能包括缺陷。具体地，网格板的反射率可能由于这样的缺陷而在特定的位置上产生偏差。这样的缺陷可能导致不准确的位置测量，且因此是不被期望的。为了避免不准确的位置测量，在网格板的制造过程中要求非常高，且仅有限数量的被制造的网格板具有足够的品质，以被用于光刻设备中。结果，网格板的成本相当高。

此外，在使用期间，缺陷可能例如由于污染、清洗或物理损坏而出现。另外，这些缺陷可能导致对被用于可移动物体的不准确的位置测量。

发明内容

期望提供一种用于确定编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法和使用编码器类型的位置测量系统的位置测量方法，其中在网格板中出现的缺陷可以被考虑。另外，期望提供一种包括用于执行这样的方法的编码器类型的位置测量系统的光刻设备。

根据本发明的一实施例，提供了一种用于确定编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法，所述方法包括：提供至少一个编码器类型的位置测量系统用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述编码器类型的位置测量系统包括网格板和编码器头，其中所述网格板被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的一个上，且所述编码器头被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的另一个上，所述编码器头至少包括辐射源和两个或更多个检测器，所述辐射源被配置用以朝向所述网格板上的测量位置发射辐射束，每一个所述检测器被配置用以测量由所述网格板反射的辐射束的量；测量被反射到所述两个或更多个检测器中的每一个检测器上的辐射束的量；使用被反射到所述两个或更多个检测器上的所述辐射束的组合的辐射束的强度，来确定表示在测量位置处的所述网格板的反射率的反射率信号；和基于所述网格板的反射率信号确定在所述测量位置处的缺陷的存在。