[发明专利]基材具有导通孔的半导体元件及其制作方法有效
申请号: | 201010198506.X | 申请日: | 2010-06-04 |
公开(公告)号: | CN102222654A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 林瑄智 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485;H01L23/532;H01L21/60;H01L21/768 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开提供一种基材具有导通孔的半导体元件及其制作方法,前述的导通孔仅会产生极小的热膨胀应力,导通孔贯穿一基底,其包含一外管贯穿基底、至少一内管设置于外管内、一介电层覆盖该外管的一侧壁与内管的一侧壁与一底部、一提升强度材料层填入内管以及一导电层填入外管。 | ||
搜索关键词: | 基材 具有 导通孔 半导体 元件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种基材具有导通孔的半导体元件,其特征在于包含:基底;以及导通孔贯穿该基底,其中该导通孔包含:外管贯穿该基底;至少一内管设置于该外管内;介电层覆盖该外管的一侧壁与该内管的一侧壁与一底部;提升强度材料层填入该内管;以及导电层填入该外管。
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