[发明专利]基材具有导通孔的半导体元件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201010198506.X 申请日: 2010-06-04
公开(公告)号: CN102222654A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 林瑄智 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L23/532;H01L21/60;H01L21/768
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人: 刘云贵
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开提供一种基材具有导通孔的半导体元件及其制作方法,前述的导通孔仅会产生极小的热膨胀应力,导通孔贯穿一基底,其包含一外管贯穿基底、至少一内管设置于外管内、一介电层覆盖该外管的一侧壁与内管的一侧壁与一底部、一提升强度材料层填入内管以及一导电层填入外管。
搜索关键词: 基材 具有 导通孔 半导体 元件 及其 制作方法
【主权项】:
一种基材具有导通孔的半导体元件,其特征在于包含:基底;以及导通孔贯穿该基底,其中该导通孔包含:外管贯穿该基底;至少一内管设置于该外管内;介电层覆盖该外管的一侧壁与该内管的一侧壁与一底部;提升强度材料层填入该内管;以及导电层填入该外管。
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