[发明专利]一种催渗等离子氮碳共渗与类金刚石复合膜层的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010187500.2 申请日: 2010-05-24
公开(公告)号: CN101871086A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 侯惠君;代明江;林松盛;韦春贝;宋进兵 申请(专利权)人: 广州有色金属研究院
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 广东世纪专利事务所 44216 代理人: 千知化
地址: 510651 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种催渗等离子氮碳共渗与类金刚石复合膜层的制备方法。其特征是由以下步骤组成:(1)催渗等离子氮碳共渗:将基材置于离子渗氮炉中,在50Pa以下,通入氮气∶氢气=2∶1~10∶1和含有稀土金属氧化物饱和的C1~3烷基醇溶液蒸汽的混合气体;(2)沉积DLC膜层:采用C2H2或CH4为碳源,气流量50~150sccm,Ar气流量100~150sccm,离子源0.2~2.0kW,偏压50~200V,压力0.2~1.0Pa或采用石墨靶为碳源,Ar压力0.2~1.0Pa,磁控溅射功率0.5~10W/cm2,离子源0.2~1.0kW,偏压50~200V。本发明制备的催渗等离子氮碳共渗与类金刚石复合膜层具有硬度高,与基体硬度差异小,高的膜/基结合力的特点。本发明的方法清洁环保,工艺简单,可以实现大面积工业化生产。
搜索关键词: 一种 等离子 氮碳共渗 金刚石 复合 制备 方法
【主权项】:
一种催渗等离子氮碳共渗与类金刚石复合膜层的制备方法,其特征是由以下步骤组成:1)稀土金属氧化物催渗等离子氮碳共渗:将基材除锈除油后置于离子渗氮炉中,压力50Pa以下,通入氮气∶氢气=2∶1~10∶1和含有稀土金属氧化物饱和的C1~3烷基醇溶液蒸汽的混合气体,炉压为200~1500Pa,炉温450~600℃,保温1~10小时,然后随炉温降至室温;2)沉积DLC膜层:①将上述稀土金属氧化物催渗等离子氮碳共渗处理后的工件,烘干后放入真空室中,本底真空度5.0×10-3Pa,温度100~200℃,工件转速2~10rpm;②在压力0.2~1.0Pa,离子源0.2~2kW和偏压50~1000V下,用Ar离子轰击清洗10~30min;③沉积DLC膜层:采用C2H2或CH4为碳源,气流量50~150sccm,Ar气流量100~150sccm,离子源0.2~2.0kW,偏压50~200V,压力0.2~1.0Pa或采用石墨靶为碳源,Ar压力0.2~1.0Pa,磁控溅射功率0.5~10W/cm2,离子源0.2~1.0kW,偏压50~200V。
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