[发明专利]掩膜图形转印装置和制备掩膜图形的方法

摘要

本发明公开了一种掩膜图形转印装置和制备掩膜图形的方法。掩膜图形转印装置包括：内轮，相对于内轮的轮轴固定，所述内轮与基板在水平面上相对运动；磁化磁头，设置于内轮上与基板距离最短的内轮底部，用于磁化镀完结构层膜层的基板上对应无需掩膜保护的区域的复合粉末；非铁磁性材料形成的外轮，用于绕内轮转动，吸附经过磁化磁头磁化后的复合粉末；去磁化磁头，设置于朝向基板转动的外轮对应的内轮的边缘部，用于对外轮吸附的磁化后的复合粉末进行去磁化操作；收集斗，其外边缘与朝向基板转动的外轮一侧相切，且设置于去磁化磁头的下方，用于收集去磁化后的复合粉末。本发明能够提高LCD的制作效率和液晶面板的质量，降低LCD的生产成本。

主权项

一种掩膜图形转印装置，其特征在于，包括：内轮，相对于所述内轮的轮轴固定，所述内轮与基板在水平面上相对运动；磁化磁头，设置于所述内轮上与所述基板距离最短的内轮底部，用于磁化镀完结构层膜层的所述基板上对应无需掩膜保护的区域的复合粉末，所述复合粉末由内核的铁磁性金属和外围的树脂外膜组成且均匀铺设在所述结构层膜层之上；非铁磁性材料形成的外轮，用于绕所述内轮转动，吸附经过所述磁化磁头磁化后的复合粉末以使所述基板上剩余的所述复合粉末形成预掩膜图形，其中，形成的所述预掩膜图形经过烘烤后，所述剩余的复合粉末外围的所述树脂外膜融化以消除所述预掩膜图形的间隙，形成掩膜图形；去磁化磁头，设置于朝向所述基板转动的所述外轮对应的所述内轮的边缘部，用于对所述外轮吸附的所述磁化后的复合粉末进行去磁化操作；收集斗，所述收集斗的外边缘与朝向所述基板转动的所述外轮一侧相切，且设置于所述去磁化磁头的下方，用于收集去磁化后的复合粉末。