[发明专利]快闪记忆体及其制造方法与操作方法有效
| 申请号: | 201010001014.7 | 申请日: | 2010-01-18 |
| 公开(公告)号: | CN102130131A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
| 发明(设计)人: | 吴冠纬;杨怡箴;张耀文;卢道政 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/10;G11C16/14;G11C16/26 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明是有关于一种快闪记忆体及其制造方法与操作方法,快闪记忆体包括基底、电荷捕捉结构、第一栅极、第二栅极、第三栅极、第一掺杂区与第二掺杂区。基底具有突起部分。电荷捕捉结构配置于基底上。第一栅极与第二栅极分别配置于突起部分二侧的电荷捕捉结构上,其中第一栅极与第二栅极的顶面低于位于突起部分的顶部上的电荷捕捉结构的顶面。第三栅极配置于位于突起部分的顶部上的电荷捕捉结构上。第一掺杂区与第二掺杂区分别配置于突起部分二侧的基底中。 | ||
| 搜索关键词: | 记忆体 及其 制造 方法 操作方法 | ||
【主权项】:
一种快闪记忆体,其特征在于其包括:一基底,具有一突起部分;一电荷捕捉结构,配置于该基底上;一第一栅极与一第二栅极,分别配置于该突起部分二侧的该电荷捕捉结构上,其中该第一栅极与该第二栅极的顶面低于位于该突起部分的顶部上的该电荷捕捉结构的顶面;一第三栅极,配置于位于该突起部分的顶部上的该电荷捕捉结构上;以及一第一掺杂区与一第二掺杂区,分别配置于该突起部分二侧的该基底中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





