[发明专利]干涉缺陷检测和分类

摘要

描述了将共同-光路干涉成像用于缺陷检测和分类的系统和方法。照射源产生相干光，并且把相干光引向样品。光学成像系统收集从样品反射或透射的光，其中包括散射分量和镜面反射分量，镜面反射分量明显未因样品发生衍射。使用可变相位系统来调节散射分量和镜面反射分量的相对相位，为的是改变它们在像平面处发生干涉的方式。所产生的信号与样品上同一位置的基准信号进行比较，并且若差异在阈值之上就被视为是缺陷。重复该过程多次，且每一次用不同的相对相位偏移，并且把每个缺陷位置和差异信号存储在存储器中。使用这种数据来计算每个缺陷的振幅和相位。

主权项

一种用于检测样品中的缺陷的共同‑光路干涉成像系统，所述系统包括：照射源，用于产生光并把光引导到样品；光学成像系统，所述光学成像系统具有物平面和像平面，并且被安排成使样品位于物平面中，并且被配置成收集来自样品的光的散射分量和镜面反射分量，其中散射分量和镜面反射分量具有相对的相位；可变相位控制系统，相对于光学成像系统而可操作地安排所述可变相位控制系统并且将其配置成调节所述散射分量和镜面反射分量之间的相对的相位；以及检测系统，所述检测系统被安排在像平面中并且在调节所述相对的相位之后检测所述散射分量和镜面反射分量的组合的至少一些部分，并且产生用于表示所述散射分量和镜面反射分量的组合的至少一些部分的电信号。