[发明专利]干涉缺陷检测和分类

权利要求书

1.一种用于检测样品中的缺陷的共同-光路干涉成像系统，所述系统包括：

照射源，用于产生光并把光引导到样品；

光学成像系统，所述光学成像系统具有物平面和像平面，并且被安排成使样品位于物平面中，并且被配置成收集来自样品的光的散射分量和镜面反射分量，其中散射分量和镜面反射分量具有相对的相位；

可变相位控制系统，相对于光学成像系统而可操作地安排所述可变相位控制系统并且将其配置成调节所述散射分量和镜面反射分量之间的相对的相位；以及

检测系统，所述检测系统被安排在像平面中并且在调节所述相对的相位之后检测所述散射分量和镜面反射分量的组合的至少一些部分，并且产生用于表示所述散射分量和镜面反射分量的组合的至少一些部分的电信号。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括样品定位系统，使所述样品定位系统配置成使样品相对于检测系统而定位，为的是提供与电信号对应的样品位置信息。

3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括信号处理器，所述信号处理器可操作地与检测系统连接或被并入到检测系统中，并且还使所述信号处理器配置成接收来自检测系统的电信号并且将电信号与基准信号进行比较以确定是否有缺陷。

4.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述样品是晶片或中间掩模，所述散射分量和镜面反射分量是从晶片表面反射的，或者所述散射分量和镜面反射分量是从中间掩模表面反射或透射的或反射和透射的。

5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述可变相位控制系统位于光学成像系统的孔径光阑处或附近，或者位于光学成像系统的孔径光阑的共轭平面处或附近。

6.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述基准信号对应于来自无缺陷样品的相应位置的信号。

7.如权利要求3所述的系统，其特征在于，从电路图案得到样品信号，并且从印刷在不同区域上的大致相似的电路图案得到基准信号。

8.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述样品包括存储器区域，并且来自一个存储器单元的散射分量和镜面反射分量的组合的检测到的部分与另一个存储器单元的检测到的部分进行比较。

9.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述样品是中间掩模，并且所述基准信号对应于针对相似情况下观察到的无缺陷中间掩模图像而计算出的信号。

10.如权利要求1所述的系统，其特征在于，配置所述可变相位控制系统以通过调节镜面反射分量的相位而调节所述相对的相位。

11.如权利要求10所述的系统，其特征在于，从样品到散射分量的像平面的光路长度大致等于从样品到镜面反射分量的像平面的光路长度，并且通过使用机械或电-光装置的相位控制系统可改变镜面反射分量光路长度。

12.如权利要求10所述的系统，其特征在于，所述可变相位控制系统包括用于反射散射分量的固定的镜子以及在镜面反射分量的光路中的可移动的镜子。

13.如权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括可变衰减系统，所述可变衰减系统被安排在所述样品和所述检测系统之间的镜面反射分量的光路中。

14.如权利要求1所述的系统，其特征在于，包括衰减系统，所述衰减系统包括在镜面反射分量到检测系统的光路中的一个或多个针孔。

15.如权利要求13所述的系统，其特征在于，所述衰减系统包括一个构件，所述构件包括具有空间变化的反射率的部分反射涂层，所述构件的位置相对于镜面反射分量到检测系统的光路是可调节的。

16.如权利要求13所述的系统，其特征在于，所述衰减系统包括偏振光学部件，配置成提供连续可变的衰减。

17.如权利要求13所述的系统，其特征在于，使镜面反射分量的振幅衰减以增大检测系统处的信号调制。

18.如权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括偏振光学部件，选择并安排所述偏振光学部件使得样品上的入射照射的偏振、到达检测系统的来自样品的镜面反射分量的偏振以及到达检测系统的来自样品的散射分量的偏振都是选择性地可变的。