[发明专利]基于模型的过程模拟的方法有效
| 申请号： | 200980120709.2 | 申请日： | 2009-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN102057329A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 叶军;曹宇;罗纳德·古森斯;邵文晋;吉姆·库梅恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻模拟使用了微分模型。微分模型描述了关于可调整的和不可调整的扫描器设定的两个扫描器的成像特性上的差别。用于两个扫描器中的一个的模型通过使用另一个扫描器的模型和微分模型来获得。类似地，灵敏度模型表示了关于不同的扫描器设定的一个扫描器的成像特性上的差别。另外地，提供用于通过与印刷结果比较来校准微分模型和灵敏度模型的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模型 过程 模拟 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻过程模拟的方法，包括：提供描述可归因于光刻过程参数中的差别的成像结果中的差别的微分模型；和使用所述微分模型产生模拟的晶片轮廓。
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