[发明专利]辐射系统、辐射收集器、辐射束调节系统、用于辐射系统的光谱纯度滤光片以及用于形成光谱纯度滤光片的方法有效
| 申请号： | 200980120016.3 | 申请日： | 2009-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN102047151A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | V·巴尼内;W·德勃伊;J·鲁普斯特拉;A·范帝杰赛欧东克;G·斯温克尔斯;J·范斯库特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B5/18;G02B5/20;G02B5/28;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种辐射系统被配置以产生辐射束。所述辐射系统包括腔，所述腔包括：辐射源，被配置以产生辐射；辐射束发射孔阑；和辐射收集器，被配置以收集由所述源产生的辐射，且将所收集的辐射传递至所述辐射束发射孔阑。所述辐射收集器包括被配置以改善经由所述孔阑被发射的所述辐射的光谱纯度的光谱纯度滤光片。所述光谱纯度滤光片包括：基衬底；在所述基衬底上的多层堆叠，所述多层堆叠包括多个交替层和在所述多层堆叠的顶侧中的多个凹陷，所述凹陷被配置以允许具有所述第一波长的辐射在所述第一方向上被反射和在所述第二方向上反射具有所述第二波长的辐射；其中，所述凹陷被配置成使得它们的横截面具有对称性的轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 收集 调节 用于 光谱 纯度 滤光 以及 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种光谱纯度滤光片，被配置以在第一方向上反射具有第一波长的辐射和在与所述第一方向不同的第二方向上反射具有第二波长的辐射，所述光谱纯度滤光片包括：基衬底；在所述基衬底上的多层堆叠，所述多层堆叠包括多个交替层；和在所述多层堆叠的顶侧中的多个凹陷，所述凹陷被配置以允许具有所述第一波长的辐射在所述第一方向上被反射和在所述第二方向上反射具有所述第二波长的辐射；其中，所述凹陷被配置成使得它们的横截面是对称性的轮廓。
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