[发明专利]存储器装置、存储器装置构造、构造、存储器装置形成方法、电流传导装置及存储器单元编程方法有效

专利信息
申请号: 200980118151.4 申请日: 2009-04-30
公开(公告)号: CN102037515A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 钱德拉·穆利 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: G11C8/08 分类号: G11C8/08
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 宋献涛
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一些实施例包含存储器装置,所述存储器装置具有:字线;位线;存储器元件,其可选择性地配置成三个或三个以上不同电阻状态中的一者;及二极管,其经配置以响应于正跨越所述字线与所述位线施加的电压而允许电流从所述字线穿过所述存储器元件流动到所述位线且无论所述电压增加还是减小均使所述电流减小。一些实施例包含存储器装置,所述存储器装置具有:字线;位线;存储器元件,其可选择性地配置成两个或两个以上不同电阻状态中的一者;第一二极管,其经配置以响应于第一电压而抑制第一电流从所述位线流动到所述字线;及第二二极管,其包括电介质材料且经配置以响应于第二电压而允许第二电流从所述字线流动到所述位线。
搜索关键词: 存储器 装置 构造 形成 方法 电流 传导 单元 编程
【主权项】:
一种存储器装置,其包括:第一字线;第二字线;位线;第一存储器单元,其包括第一二极管及第一存储器元件,所述第一二极管经配置以选择性地允许电流从所述第一字线穿过所述第一存储器元件流动到所述位线且抑制电流从所述位线穿过所述第一存储器元件流动到所述第一字线;及第二存储器单元,其包括第二二极管及第二存储器元件,所述第二二极管经配置以允许电流从所述第二字线穿过所述第二存储器元件流动到所述位线且抑制电流从所述位线穿过所述第二存储器元件流动到所述第二字线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980118151.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top