[发明专利]制造磁记录介质的方法以及磁记录和再现装置有效

专利信息
申请号: 200980108426.6 申请日: 2009-01-09
公开(公告)号: CN101971254A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 福島正人;坂脇彰 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;H01F10/16;H01F41/18;H01F41/34
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 杨晓光;于静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种制造具有磁性分离的磁记录图形的磁记录介质的方法。该方法包括:在非磁性基底上形成磁性层的步骤,该磁性层包含0.5原子%到6原子%的氧化物;以及将所述磁性层中的将要彼此磁性地分离的区域暴露到反应等离子体或反应离子的步骤。所述磁性层优选具有非颗粒状结构且是面内取向型磁性层。优选地,在将所述区域暴露到反应等离子体或反应离子的步骤之后,至少进行将惰性气体施加到已经暴露到所述反应等离子体或所述反应离子的所述区域中的表面。该方法可以以高生产率制造这样的磁记录介质,该磁记录介质包括高度精确的磁记录图形并具有高电磁转换特性和高记录密度。
搜索关键词: 制造 记录 介质 方法 以及 再现 装置
【主权项】:
一种制造具有磁性分离的磁记录图形的磁记录介质的方法,其特征在于包括:在非磁性基底上形成磁性层的步骤,所述磁性层包含基于所述磁性层的0.5原子%到6原子%的范围内的量的氧化物;以及将所述磁性层的磁性地分离所述磁记录图形的区域暴露到反应等离子体或反应离子的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社,未经昭和电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980108426.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top