[发明专利]制造磁记录介质的方法以及磁记录和再现装置

说明书

技术领域

本发明涉及制造用于诸如硬盘装置的磁记录和再现装置的磁记录介质的方法。还涉及磁记录和再现装置。

背景技术

近年来，诸如磁盘装置、软盘装置和磁带装置的磁记录装置被广泛地应用，其重要性也日益增加。在磁记录装置中使用的磁记录介质的记录密度也被极大地提高。特别地，因为MR头和PRML技术的发展，面记录密度日益增加。最近，已经开发了GMR头和TMR头，并且面记录密度以约每年100％的速率增加。对于进一步增加记录密度的需求仍然日益增加，因此，热切需要具有更高矫顽力和更高信噪比(SNR)以及高分辨率的磁性层。

同样正在进行通过增加磁道密度和增加线记录密度来提高面记录密度的尝试。

在近期的磁记录装置中，磁道密度已达到约110kTPI。然而，随着磁道密度的增加，磁记录信息倾向于在相邻的磁道之间彼此干扰，并且作为噪声源的在其边界区域中的磁化过渡区倾向于损害SNR。这些问题导致误码率的降低并阻碍了记录密度的提高。

为了提高面记录密度，需要使每一个记录位的尺寸变小并使每一个记录位具有最大饱和磁化和磁性膜厚度。然而，随着位尺寸的减小，每位的最小磁化体积变小，并且所记录的数据往往会因为由热波动造成的磁化反转而消失。

此外，为了减小相邻磁道之间的距离，磁记录装置需要高精度磁道伺服系统技术，并且通常采用这样的操作，其中，进行宽幅记录而进行窄幅再现，以使相邻磁道之间的影响最小化。该操作的优点为可以使相邻磁道的影响最小化，而缺点为再现输出相当低。这还导致难以将SNR提高到希望的高水平。

为了减小热波动、保持希望的SNR并获得希望的再现输出，已经有这样的提议，其中形成沿磁记录介质表面上的磁道延伸的凸起和凹陷，以便通过凹陷来分离位于凸起上的每一个构图的磁道，由此增加磁道密度。下文中，将该类型的磁记录介质称为离散磁道介质，并且将用于提供该类型的磁记录介质的技术称为离散磁道方法。

此外，还进行了这样的尝试，该尝试用于分割同一磁道中的数据区域，即，提供构图的介质。

离散磁道介质的一个实例为在专利文献1中公开的磁记录介质，其被这样制造，提供具有在其表面上形成的凸起和凹陷的非磁性基底，并且在非磁性基底上形成具有对应的表面结构的磁性层，以便产生物理离散的磁记录磁道和伺服信号图形(参见，例如，专利文件1)。

上述磁记录介质具有的多层结构使得可以通过在其表面上形成有凸起和凹陷的图形的非磁性基底上的软磁性衬层(underlayer)来形成铁磁性层，并在铁磁性层上形成外涂层(overcoat)。磁记录构图区域在与周围区域物理分离的凸起上形成磁记录区域。

在上述磁记录介质中，可以防止或最小化在软磁性衬层中铁磁畴壁的出现，因此减小了由热波动造成的影响，并且使相邻信号之间的干扰最小化，从而提供具有呈现大SNR的高记录密度的磁记录介质。

离散磁道方法包括两种方法：第一种为在形成包括几个层叠的膜的多层磁记录介质之后形成磁道的方法；第二种为直接在基底上或在用于在其上形成磁道的膜层上形成具有凸起和凹陷的图形且然后使用构图的基底或构图的膜层形成多层磁记录介质的方法(参见，例如，专利文件2和专利文件3)。

在专利文件4、5和6中提出了另一离散磁道方法。在所提出的方法中，例如，对预先形成的磁性层进行氮离子或氧离子注入或利用激光进行照射，由此在离散磁道介质中形成具有经改性的磁特性并分离磁道的区域。

此外，还提出了一种制造磁记录介质的方法，其包括形成具有颗粒状结构的磁性层作为离散磁道介质的步骤(参见，专利文件7)。

此外，在专利文件8中提出了一种形成磁性图形的方法，其包括以下步骤：将铁磁性层的表面的区域暴露到含卤素的反应气体，由此在铁磁性层中的所述暴露的区域中卤化在离散磁道介质中的铁磁性层中所包含的CoO，以使该区域不具有铁磁性。

专利文件1  JP 2004-164692A1

专利文件2  JP 2004-178793A1

专利文件3  JP 2004-178794A1

专利文件4  JP H5-205257A1

专利文件5  JP 2006-209952A1

专利文件6  JP 2006-31849A1

专利文件7  JP 2006-155863A1

专利文件8  JP 2002-359138A1

发明内容

本发明所要解决的问题