[发明专利]耐水性偏光膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 200980101016.9 申请日: 2009-01-23
公开(公告)号: CN101861536A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 宫崎顺三;松田祥一;西口恭子 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C09B31/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 以往的使有机色素取向的偏光膜使用具有由磺酸离子与1价阳离子相键合的磺酸盐基的有机色素。这样的偏光膜由于有机色素的磺酸盐基溶于水而缺乏耐水性。对此,将磺酸盐基的1价阳离子置换成不溶于水的2价阳离子可以获得耐水性偏光膜。但进行耐水性处理会产生二色性比降低的问题。为了获得二色性比不降低的耐水性偏光膜,进行耐水化处理的偏光膜所用的有机色素内的相邻的磺酸基或磺酸盐基的位置关系至关重要。本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于,耐水化处理前的偏光膜包含由下述通式(1)或(2)所示的偶氮化合物20构成的有机色素。
搜索关键词: 耐水性 偏光 制造 方法
【主权项】:
1.一种耐水性偏光膜的制造方法,所述制造方法包括下述工序,即,使包含具有2个以上磺酸基或磺酸盐基的有机色素的偏光膜的至少一侧的表面与包含2价阳离子的液体接触而进行耐水化处理的工序,其特征在于,所述耐水化处理前的所述有机色素为下述通式(1)或(2)所示的偶氮化合物,[化学式1][化学式2]在式(1)和(2)中,Q1和Q2表示可具有取代基的芳基;R表示氢原子、碳原子数1~3的烷基、乙酰基、苯甲酰基或可具有取代基的苯基;m表示0~5的整数,n表示0~5的整数,其中,m+n≤5,且m、n中的至少一个不为0;k表示0~5的整数,l表示0~5的整数,其中,k+l≤5,且k、l中的至少一个不为0;M表示提供1价阳离子的元素。
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