[发明专利]耐水性偏光膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及使有机色素取向的耐水性偏光膜的制造方法。

背景技术

液晶面板中，为了控制透过液晶的光线的旋光性而使用偏光板。以往作为这些偏光板，将聚乙烯醇等聚合物薄膜用碘、二色性色素进行染色、并沿一个方向拉伸而成的偏光板被广泛使用。但是上述偏光板会由于色素、聚合物薄膜的种类而产生耐热性、耐光性不足、以及厚度过厚的问题。

相对于此，在玻璃板、聚合物薄膜等基材上流延包含显示溶致液晶性的有机色素的涂布液，使有机色素取向而形成偏光膜的方法是已知的。显示溶致液晶性的有机色素在溶液中形成超分子缔合体，若对含有该有机色素的涂布液施加剪切应力使之流延，则超分子缔合体的长轴方向会沿流延方向取向(专利文献1)。使用这样的有机色素的偏光膜不需要拉伸，且不会由于拉伸而在宽度方向产生收缩，因此易获得宽度宽的偏光膜。另外由于可将膜厚压至极薄，其前景备受期待。

以往，为了赋予水溶性，使有机色素取向的一部分偏光膜使用具有由磺酸离子(-SO₃^-)与1价阳离子(如：Li⁺)相键合的磺酸盐基的有机色素。这样的偏光膜由于有机色素的磺酸盐基发生离子化而溶于水，因此缺乏耐水性。相对于此，通过将磺酸盐基的1价阳离子置换成不溶于水的2价阳离子而进行耐水化处理，可获得不溶或难溶于水的耐水性偏光膜(专利文献2)。

然而在以往的耐水性偏光膜的制造方法中，进行上述耐水性处理会使有机色素的取向程度降低，结果产生二色性比降低的问题。

专利文献1：日本特开2006-323377号公报

专利文献2：日本特开平11-21538号公报

发明内容

发明要解决的问题

在以往的耐水性偏光膜的制造方法中，进行上述耐水性处理会产生有机色素的取向程度和二色性比降低的问题。本发明的目的在于，提供有机色素的取向程度和二色性比不降低的耐水性偏光膜的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人等研究的结果表明，为了获得二色性比不因耐水化处理而降低的偏光膜，重要的是使偏光膜所使用的有机色素内的相邻的磺酸基或磺酸盐基的位置适当地分开。

本发明的主旨如下所述。

(1)本发明的耐水性偏光膜的制造方法，其包括下述工序，即，使包含具有2个以上的磺酸基或磺酸盐基的有机色素的偏光膜的至少一侧的表面与包含2价阳离子的液体接触而进行耐水化处理的工序，其特征在于，前述耐水化处理前的前述有机色素为下述通式(1)或(2)所示的偶氮化合物。

[化学式1]

[化学式2]

在式(1)和(2)中，Q₁和Q₂表示可具有取代基的芳基，R表示氢原子、碳原子数1～3的烷基、乙酰基、苯甲酰基或可具有取代基的苯基，m表示0～5的整数，n表示0～5的整数(其中，m+n≤5，且m、n中的至少一个不为0)，k表示0～5的整数，l表示0～5的整数(其中，k+l≤5，且k、l中的至少一个不为0)，M表示提供1价阳离子的元素。

(2)本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于，前述偶氮化合物为下述通式(3)或(4)所示的偶氮化合物。

[化学式3]

[化学式4]

在式(3)和(4)中，X表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的烷氧基或-SO₃M基，R表示氢原子、碳原子数1～3的烷基、乙酰基、苯甲酰基或可具有取代基的苯基，M表示提供1价阳离子的元素。

(3)本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于，前述2价阳离子的离子半径为0.05nm～0.2nm。

(4)本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于，前述包含2价阳离子的液体中的、提供前述2价阳离子的离子化合物的浓度为1％～40％。

(5)本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于，前述包含2价阳离子的液体的液体温度为5℃～60℃。

(6)本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于，前述包含2价阳离子的液体为氯化钡水溶液。

发明效果