[实用新型]真空成膜用反溅清洗辅助电极装置无效
| 申请号： | 200920208833.1 | 申请日： | 2009-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN201545906U | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 张清廉 | 申请（专利权）人： | 宝山钢铁股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/02 |
| 代理公司： | 上海集信知识产权代理有限公司 31254 | 代理人： | 周成 |
| 地址： | 201900 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，在靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物，并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。这样，反溅清洗物就直接沉积在遮挡部件上，而不会直接沉积在靶面上，从而避免造成辅助电极失效而导致影响试样的反溅清洗效果；并且该遮挡部件能够便于清洗和更换，能够提高工作效率；另外，通过旋转调节机构可调整遮挡部件与靶之间的覆盖面积配比，以增加辅助电极的使用参数，从而有利于拓宽反溅清洗的试验内容。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 成膜用反溅 清洗 辅助 电极 装置 | ||
【主权项】：
一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，所述升降调节机构包括与靶相连的固定杆、升降台、与升降台相连的升降驱动部件，其特征在于：在所述靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。
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