[实用新型]真空成膜用反溅清洗辅助电极装置

权利要求书

1.一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，所述升降调节机构包括与靶相连的固定杆、升降台、与升降台相连的升降驱动部件，其特征在于：

在所述靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。

2.如权利要求1所述的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，其特征在于：

所述遮挡部件上端设置一个旋转调节机构，旋转调节机构与遮挡部件相连接。

3.如权利要求2所述的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，其特征在于：

所述旋转调节机构包括旋转杆、轴承套、固定支架和旋转驱动部件；所述旋转杆下端与遮挡部件相连接，上端依次穿过轴承套、固定支架，并与旋转驱动部件相连。

4.如权利要求3所述的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，其特征在于：

所述旋转调节机构还包括一个旋转限位部件，旋转限位部件包括设于旋转杆上部的定位销、以及设于固定支架内侧并与定位销相对应的数个限位开关。

5.如权利要求3所述的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，其特征在于：

所述固定支架底部固定在所述升降台上，所述轴承套穿过升降台并相互连接固定。

6.如权利要求1所述的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，其特征在于：

所述遮挡部件为一遮挡板。