[实用新型]真空成膜用反溅清洗辅助电极装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空成膜设备的反溅清洗技术，更具体地说，涉及一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置。

背景技术

反溅清洗是真空成膜设备常用的试样预处理工艺。目前，现有的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置100如图1所示，包括作为辅助电极的靶110和与靶110相连的升降调节机构120，所述升降调节机构120包括升降台121，固定杆124和升降驱动部件123，所述固定杆124的下端连接靶110，另一端穿过升降台121，升降台121与升降驱动部件123相连接，并可通过升降驱动部件123进行垂直移动。在该辅助电极装置100的长期使用和维护过程中，容易造成如下几个问题：

(1)反溅清洗物易直接沉积在靶面上，长期运转后表面成膜太厚，甚至形成绝缘膜，从而影响放电效应或是导致电极本身失效，进而造成试样的表面清洗效果欠佳或是失败。

(2)如若对沉积在靶面上的物质不及时清洗，有可能进一步形成悬浮于真空室内的浮尘，不仅可能需要花费更长时间才能抽到本底真空，严重时甚至根本不能抽取到本底真空，还更有可能对泵等真空获得系统部件造成致命损伤。

(3)经过一段时间的使用后，必须将整个辅助电极装置拆下后进行清洗，在重新装配后，必须评估真空系统的气密性才能重新使用，从而增加了设备的维护工作量。如果装配不好，还势必影响整个真空成膜设备的气密性，致使设备不能重新正常运转。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述缺点，本实用新型的目的是提供一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，该辅助电极装置能够避免反溅清洗物沉积而造成的辅助电极失效，从而保证试样的反溅清洗效果。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，所述升降调节机构包括与靶相连的固定杆、升降台，与升降台相连的升降驱动部件，在所述靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。

所述遮挡部件上端设置一个旋转调节机构，旋转调节机构与遮挡部件相连接。

所述旋转调节机构包括旋转杆、轴承套、固定支架和旋转驱动部件；所述旋转杆下端与遮挡部件相连接，上端依次穿过轴承套、固定支架，并与旋转驱动部件相连。

所述旋转调节机构还包括一个旋转限位部件，旋转限位部件包括设于旋转杆上部的定位销、以及设于固定支架内侧并与定位销相对应的数个限位开关。

所述固定支架底部固定在所述升降台上，所述轴承套穿过升降台并相互连接固定。

所述遮挡部件为一遮挡板。

在上述技术方案中，本实用新型的真空成膜用反溅清洗辅助电极装置包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，在靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物，并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。这样，反溅清洗物就直接沉积在遮挡部件上，而不会直接沉积在靶面上，从而避免造成辅助电极失效而导致影响试样的反溅清洗效果；并且该遮挡部件能够便于清洗和更换，能够提高工作效率；另外，通过旋转调节机构可调整遮挡部件与靶之间的覆盖面积配比，以增加辅助电极的使用参数，从而有利于拓宽反溅清洗的试验内容。

附图说明

图1是现有技术的反溅清洗辅助电极装置的结构示意图；

图2是本实用新型的反溅清洗辅助电极装置的结构示意图；

图3是本实用新型的反溅清洗辅助电极装置应用在真空成膜设备上的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例进一步说明本实用新型的技术方案。