[实用新型]单腔双线式真空装置无效
申请号: | 200920156151.0 | 申请日: | 2009-06-15 |
公开(公告)号: | CN201425936Y | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 黄泳钊;郑博仁 | 申请(专利权)人: | 北儒精密股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人: | 万学堂;桑丽茹 |
地址: | 台湾省台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种单腔双线式真空装置,可传送一个加工物件前进,并包括:一个具有一腔室的基座、一个将该基座的腔室区隔成一第一通道及一第二通道的冷却区隔单元、两个分别安装在该腔室的第一及第二通道内并且将加工物件由一入口端往一出口端传送的输送机构,以及一个架设在该基座旁并将加工物件由第一通道移送到第二通道的连接机构。借在腔室内架设具有区隔及冷却功能的冷却区隔单元,除了可以将腔室区隔成两条平行的通道,以缩小装置的体积及摆放空间外,还可以降低加工时的制程高温,使真空装置的各项加工顺畅进行。 | ||
搜索关键词: | 双线 真空 装置 | ||
【主权项】:
1.一种单腔双线式真空装置,用来移送一个加工物件,并包括:一个基座、两个传送机构,以及一个和基座并靠连接的连接机构,该基座包括一个界定出一腔室的腔壁,上述腔壁具有一个第一壁部及一个第二壁部;其特征在于:该真空装置还包括一个安装在该基座的腔室内并且将该腔室分隔成一个靠近第一壁部的第一通道,以及一个靠近第二壁部的第二通道的冷却区隔单元,上述第一通道及第二通道都各别具有一个入口端及一个出口端,而所述输送机构是分别安装在第一通道及第二通道内,并且将加工物件由入口端往出口端移送,该连接机构是将由第一通道的出口端送出的加工物件移送到第二通道的入口端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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