[实用新型]单腔双线式真空装置无效
| 申请号: | 200920156151.0 | 申请日: | 2009-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN201425936Y | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
| 发明(设计)人: | 黄泳钊;郑博仁 | 申请(专利权)人: | 北儒精密股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
| 代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人: | 万学堂;桑丽茹 |
| 地址: | 台湾省台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双线 真空 装置 | ||
1.一种单腔双线式真空装置,用来移送一个加工物件,并包括:一个基座、两个传送机构,以及一个和基座并靠连接的连接机构,该基座包括一个界定出一腔室的腔壁,上述腔壁具有一个第一壁部及一个第二壁部;
其特征在于:该真空装置还包括一个安装在该基座的腔室内并且将该腔室分隔成一个靠近第一壁部的第一通道,以及一个靠近第二壁部的第二通道的冷却区隔单元,上述第一通道及第二通道都各别具有一个入口端及一个出口端,而所述输送机构是分别安装在第一通道及第二通道内,并且将加工物件由入口端往出口端移送,该连接机构是将由第一通道的出口端送出的加工物件移送到第二通道的入口端。
2.如权利要求1所述的单腔双线式真空装置,其特征在于:该基座还包括数个连接在第一壁部及第二壁部间的区隔壁,而该冷却区隔单元包括数个架设在相对应的区隔壁间的冷却隔座,所述区隔壁都具有两个分别位在冷却隔座相反侧的阀门。
3.如权利要求2所述的单腔双线式真空装置,其特征在于:上述冷却隔座都具有两片分别横向架设在基座的区隔壁间的侧板,以及一个围绕并连接侧板同时和侧板共同界定出一个冷却室的连接围板,每个冷却隔座的连接围板都具有一个上壁部,以及一个下壁部,而所述冷却隔座还具有数个由该上壁部往下延伸的第一隔板,以及数个由下壁部往上延伸的第二隔板,每个第一隔板到下壁部间都具有一个第一通口,而所述第二隔板到上壁部间都具有一个第二通口,又前述第二隔板是分别位在两两相邻的第一隔板间,借此构成一条迂回的水道。
4.如权利要求3所述的单腔双线式真空装置,其特征在于:该冷却隔座还具有一个安装在上、下壁部间的入水管,以及一支安装在上、下壁部间并且和入水管间隔的出水管。
5.如权利要求1或4所述的单腔双线式真空装置,其特征在于:该连接机构是一种平移的设计,并包括一个和基座接连的连接腔体、一个架设在该连接腔体内部的平移单元,以及一个架设在该平移单元上并将加工物件往一平移方向移送的连接承座。
6.如权利要求1或4所述的单腔双线式真空装置,其特征在于:该连接机构是一种回转式的设计,并包括一个中空的连接腔体、一个可转动地架设在该连接腔体内部的回转座,以及至少一个安装在该回转座上并可将由其中一个输送机构送出的加工物件往另一个输送机构移送的连接承座。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





