[发明专利]真空镀膜装置无效
| 申请号： | 200910309766.7 | 申请日： | 2009-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN102061449A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 王仲培 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空镀膜装置，其具有一腔体以及收容在腔体内的轨道、多个料杆以及多对靶材。料杆设置在轨道上，每个料杆能够绕自身中心轴转动且挂设有多个待镀工件。每对靶材分设在轨道内外两侧，所述多对靶材分别用于对多个待镀工件镀膜。所述轨道包括多个弧形轨道部，每两个相邻的弧形轨道部之间为弧形连接且使得轨道呈封闭状。本发明的真空镀膜装置，通过将轨道设置为花朵状，使得轨道的长度加长，从而能够在轨道上放置更多的料杆，增加了每次镀膜的待镀膜工件的数量，提高了镀膜效率。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜装置，其具有一腔体以及收容在腔体内的轨道、多个料杆以及多对靶材，料杆设置在轨道上，每个料杆能够绕自身中心轴转动且挂设有多个待镀工件，每对靶材分设在轨道内外两侧，所述多对靶材分别用于对多个待镀工件镀膜，其特征在于，所述轨道包括多个弧形轨道部，每两个相邻的弧形轨道部之间为弧形连接且使得轨道呈封闭状。
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