[发明专利]真空镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

目前，利用真空溅镀技术对待镀膜工件进行镀膜时，通常将多个待镀膜工件吊设在多个旋转料架上，然后将旋转料架放置在一个圆环形轨道上运动，多对靶材则分别相对地设置在圆环形轨道内外侧，以对每个旋转料架上的待镀膜工件进行镀膜。镀膜时，圆环形轨道带动待镀膜工件相对靶材转动，使得待镀膜工件能够沉积膜层。然而，由于圆环形轨道的长度受限于圆环形轨道的半径，使得在圆环形轨道上设置旋转料架的数量有限，导致每次镀膜的待镀膜工件数量也有限，镀膜效率不高。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种提高镀膜效率的真空镀膜装置。

一种真空镀膜装置，其具有一腔体以及收容在腔体内的轨道、多个料杆以及多对靶材。料杆设置在轨道上，每个料杆能够绕自身中心轴转动且挂设有多个待镀工件。每对靶材分设在轨道内外两侧，所述多对靶材分别用于对多个待镀工件镀膜。所述轨道包括多个弧形轨道部，每两个相邻的弧形轨道部之间为弧形连接且使得轨道呈封闭状。

相较于现有技术，本发明的真空镀膜装置，通过将轨道设置为花朵状，使得轨道的长度加长，从而能够在轨道上放置更多的料杆，增加了每次镀膜的待镀膜工件的数量，提高了镀膜效率。

附图说明

图1为本发明较佳实施方式提供的真空镀膜装置的俯视图；

图2为图1的真空镀膜装置的II部分的放大图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。

请参阅图1，本发明较佳实施方式提供的真空镀膜装置100，包括一腔体10、一轨道20、多个料杆30和多对靶材40。腔体10形成有一个溅镀腔12，所述轨道20和多对靶材40固定收容在溅镀腔12内。多个料杆30设置在轨道20上，所述轨道20能够带动多个料杆30在溅镀腔12内运动。每对靶材40分设在轨道20内外两侧，其为用于对多个待镀工件200进行溅镀的溅射源。待镀工件200挂设在料杆30上，并通过轨道20传送以进行连续镀膜。

具体地，腔体10上设置有与溅镀腔12相连通的进气管14以及抽气管16，进气管14用于供溅镀所需的反应气体进入到溅镀腔12内，抽气管16用于对溅镀腔12进行抽真空处理。腔体10具有一底壁18以及多个侧壁19，所述轨道20以及靶材40固定在该底壁18上。

轨道20包括至少三个依次连接的弧形轨道部20a，每两个相邻的弧形轨道部20a之间为弧形连接且使得轨道20呈封闭状。本实施方式中，弧形轨道部20a的数量为3个，每个弧形轨道部20a尺寸相等且通过焊接方式依次连接，使得所述轨道20呈花朵状，其周长大于轨道20呈相同直径的圆形时的周长，因此，可承载更多数量的料杆30。可以理解，所述弧形轨道部20a的数量可根据具体的镀膜要求来设定，例如可以设置为10个。

为了能够使得轨道20连续运动，该轨道20还包括驱动部21以及与驱动部21传动连接的传动部22，该传动部22用于承载料杆30，使得传动部22能够在驱动部21的驱动下，带动料杆30在溅镀腔12内运动。

具体的，每个驱动部21包括马达210以及与马达210固定连接的齿轮212。马达210固定在腔体10上，其能够在通电情况下驱动所述齿轮212旋转。每个驱动部21还具有一控制装置214，所述控制装置214内预先设置有马达210的驱动时间以及驱动效率，控制装置214用于根据所述驱动时间以及效率，控制所述传动部22的运动距离，以控制多个待镀工件200的镀膜时间。可以理解，为了操作方便，所述控制装置214可通过导线连接至腔体10外。

请结合图2，本实施方式中，传动部22为传动链条。所述多个料杆30装设在传动部22上。具体的，所述传动部22上设置多个等间距设置的固持孔220，每个料杆30对应固定于每个固持孔220上。所述传动部22的外边缘开设有多个与所述齿轮212啮合的轮齿222，所述马达210能够通过所述齿轮212驱动所述传动部22运动。

每个料杆30包括一个主杆31以及从主杆31沿其径向向外延伸的多个支杆32，每个支杆32上悬挂有多个所述待镀工件200。每个主杆31能够绕自身中心轴转动。具体的，每一个主杆31连接有一个致动部310，致动部310用于驱动相对应的主杆31绕自身中心轴转动。本实施方式中，致动部310包括转子310a和定子310b，转子310a与主杆31固定，以驱动主杆31旋转。定子310b固定组装至固持孔220，以将对应的料杆30组装至传动部22上。优选地，致动部310为一个旋转马达。