[发明专利]晶片清洗装置及晶片清洗方式有效
| 申请号： | 200910266338.0 | 申请日： | 2009-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN102107197A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 蔡新庭;余政宏;刘金光;李明星;庄玮宏;童圭璋;吕彦逸;王进钦 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种晶片清洗装置及晶片清洗方式。该晶片清洗装置，包含：一平台，用以承载一晶片，前述的晶片具有一待洗表面、一第一喷嘴设于该晶片的上方，第一喷嘴与晶片的待洗表面之间具有一第一高度以及一第二喷嘴设于晶片的上方，第二喷嘴与晶片的待洗表面之间具有一第二高度，其中第一高度小于第二高度。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 清洗 装置 方式 | ||
【主权项】：
一种晶片清洗装置，包含：平台，用以承载晶片，该晶片具有待洗表面；第一喷嘴设于该晶片的上方，该第一喷嘴与该晶片的该待洗表面之间具有第一高度；以及第二喷嘴设于该晶片的上方，该第二喷嘴与该晶片的该待洗表面之间具有第二高度，其中该第一高度小于该第二高度。
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