[发明专利]像素结构有效
申请号: | 200910253586.1 | 申请日: | 2009-12-03 |
公开(公告)号: | CN101738805A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 柳智忠;黎昔耀 | 申请(专利权)人: | 深超光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L23/528 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 丁建春;陈华 |
地址: | 518100 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种像素结构包括一扫描线、一数据线、一栅极、一半导体层、一源极、一漏极、一延伸电极及一像素电极。扫描线与数据线交错并电性绝缘。栅极电性连接至扫描线。半导体层位于栅极上。源极位于半导体图案上且连接至数据线。漏极包括一接触部、一电极部及一连接部。接触部位于栅极外,电极部位于半导体图案上。连接部由接触部沿一方向延伸以连接至电极部并与栅极部分重叠。像素电极连接接触部。延伸电极连接扫描线。延伸电极的一末端沿方向指向半导体层以与漏极重叠。连接部的一第一宽度与延伸电极的一第二宽度相等。 | ||
搜索关键词: | 像素 结构 | ||
【主权项】:
一种像素结构,包括:一扫描线以及一数据线,彼此交错并且电性绝缘;一栅极,电性连接至该扫描线;一半导体层,位于该栅极上方;一源极,至少位于该半导体图案上并连接至该数据线;一漏极,至少位于该半导体图案上,该漏极包括:一接触部,位于该栅极之外;一电极部,位于该半导体图案上;一连接部,由该接触部沿一方向延伸以连接至该电极部并与该栅极部分重叠,且该连接部具有一第一宽度;一延伸电极,连接该扫描线,且该延伸电极的一末端沿该方向指向该半导体层并与该漏极重叠,而该延伸电极具有一第二宽度,且该第一宽度等于该第二宽度;以及一像素电极,连接该漏极的该接触部。
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