[发明专利]晶体管的版图结构无效
| 申请号： | 200910201348.6 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN102104066A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 赵芳芳 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭露了一种晶体管的版图结构，该版图结构包括：有源区、栅极区、源区以及漏区，所述栅极区位于所述有源区上，所述栅极区将所述源区和所述漏区分隔开，其中，所述有源区为弯曲结构。本发明减少了晶体管在栅极区长度方向的占用面积，提高了晶体管的集成度，降低了生产成本，并且提高了晶体管的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体管 版图 结构 | ||
【主权项】：
一种晶体管的版图结构，包括：有源区、栅极区、源区以及漏区，所述栅极区位于所述有源区上，所述栅极区将所述源区和所述漏区分隔开，其特征在于，所述有源区为弯曲结构。
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