[发明专利]二硫戊环化合物用于皮肤光防护的用途;新型二硫戊环化合物;含有它们的组合物有效

专利信息
申请号: 200910178010.3 申请日: 2009-09-23
公开(公告)号: CN101683311A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: X·马拉特;K·卢塞特-莱瓦尼尔 申请(专利权)人: 莱雅公司
主分类号: A61K8/49 分类号: A61K8/49;A61K31/385;A61K31/4025;A61Q17/04;A61Q19/08;A61P17/18;C07D339/04;C07D409/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 万雪松;孙秀武
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 二硫戊环化合物用于皮肤光防护的用途;新型二硫戊环化合物;含有它们的组合物。本发明涉及至少一种选自符合下式(I)的那些的二硫戊环化合物在包含生理学可接受介质的组合物中用于增强和/或保持皮肤对抗尤其由紫外线辐射引起的氧化应力的天然抗氧化防护的化妆用途。
搜索关键词: 二硫戊 环化 用于 皮肤 防护 用途 新型 含有 它们 组合
【主权项】:
1.至少一种选自符合式(I)的那些的二硫戊环化合物、及其盐、其螯合物、其溶剂合物及其光学异构体在包含生理学可接受介质的组合物中用于增强和/或保持皮肤对抗尤其由紫外线辐射引起的氧化应力的天然抗氧化防护的化妆用途其中:Y是指O、NR1或S;R1是指氢原子;饱和直链C1-C20或支链C3-C20或不饱和C2-C20烷基烃-基基团;任选被一个或多个羟基和/或被一个或多个C1-C8烷氧基取代的苯基;R是指氢原子;饱和直链C1-C20或支链C3-C20或不饱和C2-C20烷基烃-基基团;任选被一个或多个羟基和/或被一个或多个C1-C8烷氧基取代的苯基;或含有任选被一个或多个羟基和/或被一个或多个C1-C8烷氧基取代的苯基取代基的饱和C1-C8烷基;R任选带有一个或多个选自OR2、SR2、NR2R3和COOR2的取代基,其中:R2是指氢原子或饱和直链C1-C5或支链C3-C5或不饱和C2-C5烃-基基团或苯基;R3是指氢原子;饱和直链C1-C5或支链C3-C5或不饱和C2-C5烃-基基团;苯基;乙酰基,当Y是指NR1时,R和R1可形成选自吡咯烷、吡咯啉、哌嗪、吗啉、硫代吗啉和氮杂的环;m=0或1或2;n=0或1或2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于莱雅公司,未经莱雅公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910178010.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top