[发明专利]二硫戊环化合物用于皮肤光防护的用途;新型二硫戊环化合物;含有它们的组合物有效
| 申请号: | 200910178010.3 | 申请日: | 2009-09-23 |
| 公开(公告)号: | CN101683311A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
| 发明(设计)人: | X·马拉特;K·卢塞特-莱瓦尼尔 | 申请(专利权)人: | 莱雅公司 |
| 主分类号: | A61K8/49 | 分类号: | A61K8/49;A61K31/385;A61K31/4025;A61Q17/04;A61Q19/08;A61P17/18;C07D339/04;C07D409/06 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 万雪松;孙秀武 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 二硫戊 环化 用于 皮肤 防护 用途 新型 含有 它们 组合 | ||
1.至少一种选自符合式(I)的那些的二硫戊环化合物及其 盐在制备组合物中的用途,所述组合物包含生理学可接受介质, 用于增强和/或保持皮肤对抗氧化应力的天然抗氧化防护
其中:
Y是指O、NR1或S;
R1是指氢原子;饱和直链C1-C20或支链C3-C20或不饱和 C2-C20烷基烃-基基团;
R是指氢原子;饱和直链C1-C20或支链C3-C20或不饱和 C2-C20烷基烃-基基团;R任选带有一个或多个选自OR2、SR2、 NR2R3和COOR2的取代基,其中:
R2是指氢原子或饱和直链C1-C5或支链C3-C5或不饱和 C2-C5烃-基基团;
R3是指氢原子;饱和直链C1-C5或支链C3-C5或不饱和C2-C5烃-基基团;乙酰基;
m=0或1或2;
n=0或1或2。
2.根据权利要求1的用途,其中式(I)的化合物选自如下 这些,其中:
Y是指S、O或NR1;
R1是指氢原子;饱和直链C1-C10或支链C3-C10烷基烃-基基 团;
R是指氢原子;饱和直链C1-C20或支链C3-C20烷基烃-基基 团;被一个或多个相同或不同的选自OR2、SR2、NR2R3和COOR2的基团取代的直链C1-C5烷基烃-基基团,其中:
R2是指氢原子或饱和直链C1-C5或支链C3-C5或不饱和 C2-C5烃-基基团;
R3是指氢原子;饱和直链C1-C5或支链C3-C5烃-基基团; 乙酰基;
n=0或1或2;
m=0或1或2;
及其酸式或碱式盐。
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