[发明专利]一种四氯化硅低温处理工艺

摘要

本发明为一种四氯化硅低温处理工艺，过程为：将四氯化硅和水导入到反应釜水解反应，将产生的HCl气体进行过滤，除去其中的杂质，得到高纯度HCl气体并进行回收，得到稀盐酸，将稀盐酸出厂销售。将反应釜中所产生的H4SiO4进行固液分离，获得H2SiO3，H2SiO3转化为硅酸盐类。本发明为低温反应，可以有效控制反应的速度，对于设备的要求不高，并且设备的工作功率低，能耗低。且本发明的产物为稀盐酸和硅酸盐类产品，有着很大的下游产业市场空间，是很多工业和民用产业的原料品，所以可以规模化，产业化地发展本发明技术。

主权项

一种四氯化硅低温处理工艺，其特征在于，它由以下步骤完成：(1.1)、四氯化硅和水导入到反应釜进行反应水解，得到H4SiO4和HCl，其化学式为：SiCl4+H2O→H4SiO4+HCl；(1.2)、将反应所产生的HCl气体进行过滤，除去其中的杂质，得到高纯度HCl气体；(1.3)、高纯度HCl气体进行至少三次回收，得到稀盐酸，将稀盐酸包装出厂销售，进入下游产业；(1.4)、将反应釜中所产生的H4SiO4进行固液分离，获得H2SiO3和H2O，H2SiO3转化为硅酸盐类，将硅酸盐类包装出厂销售，进入下游产业；H2O全部回收套用。