[发明专利]ITO膜的加工方法及电子设备有效

专利信息
申请号: 200910105852.6 申请日: 2009-03-06
公开(公告)号: CN101569958A 公开(公告)日: 2009-11-04
发明(设计)人: 高云峰;翟学涛;高子丰;雷群 申请(专利权)人: 深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数控科技有限公司
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人: 曾旻辉
地址: 518000广东省深圳市南山区高*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种ITO膜的加工方法,包括以下步骤:将附有ITO膜的基底放置在加工台面上,所述ITO膜朝向所述台面并在ITO膜与所述台面之间设置间隙;从所述基底所在的一侧发射激光对所述ITO膜进行加工。采用激光加工的方法,不需要使用化学药品,可以避免对环境造成污染,并且采用激光技术进行ITO膜加工便可以实现快速制造的目的。此外,还提供了一种包含采用上述ITO膜的加工方法制备的透明电极的电子设备。
搜索关键词: ito 加工 方法 电子设备
【主权项】:
1、一种ITO膜的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:将附有ITO膜的基底放置在加工台面上,所述ITO膜朝向所述台面并在ITO膜与所述台面之间设置间隙;从所述基底所在的一侧发射激光对所述ITO膜进行加工。
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