[发明专利]一种肖特基势垒二极管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910050995.1 申请日: 2009-05-12
公开(公告)号: CN101697357A 公开(公告)日: 2010-04-21
发明(设计)人: 杨忠武;宋凯霖;洪旭峰;任宏志 申请(专利权)人: 上海芯石微电子有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L21/329;H01L21/316;H01L21/3105
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200120 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种肖特基势垒二极管及其制备方法,该二极管的结构为:以N型半导体为基片,在上面形成N-外延层,阳极为(阻档层)金属材料;其制备包括:在硅外延片和金属之间用75度清洗试剂清洗10-30分钟生长一层薄氧化层,氧化层厚度在,然后溅射或蒸发金属,合金形成硅化物,作为势垒层,从而形成了肖特基势垒二极管。本发明制备方法简单,在低成本的条件下,通过薄氧化层的参与,降低了势垒高度,高效率的制备得到低正向压降的肖特基势垒二极管,与传统二极管结构相比,本发明二极管的应用范围更为广泛。
搜索关键词: 一种 肖特基势垒二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种肖特基势垒二极管,其结构包括:以N型半导体为基片(阴极),在上面生长N-外延层,N-外延淀积一层金属M作为阳极。
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