[发明专利]晶圆级芯片尺寸封装方法无效
申请号: | 200910030159.7 | 申请日: | 2009-03-20 |
公开(公告)号: | CN101840870A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
发明(设计)人: | 张春艳 | 申请(专利权)人: | 昆山西钛微电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/3065;H01L21/268;H01L21/60;B23K26/00 |
代理公司: | 昆山四方专利事务所 32212 | 代理人: | 盛建德 |
地址: | 215316 江苏省昆山市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶圆级芯片尺寸封装方法,按如下步骤进行:a.在晶圆的正面固定覆盖一层玻璃,将晶圆从背面研磨减薄至设定尺寸厚度,再对晶圆背面进行等离子蚀刻;b.将晶圆背面冲洗干净;c.在晶圆背面按设计进行激光打孔,在晶圆背面按设计形成若干微孔,微孔将晶圆正面部分的可导通处外露于晶圆背面形成若干导通点;d.对晶圆背面按设计进行电镀形成与导通点数量对应的金属线,金属线连通导通点和晶圆背面需植焊球的地方;e.按设计在晶圆背面需植焊球的地方植焊球;f.将晶圆沿切割线切割成单颗封装好的器件。利用激光打孔技术进行微孔的制作,不存在热烧残渣,加工出的孔质量较优且孔内清洁,可有效提高生产效率、降低生产成本和改善生产环境。 | ||
搜索关键词: | 晶圆级 芯片 尺寸 封装 方法 | ||
【主权项】:
一种晶圆级芯片尺寸封装方法,其特征在于:按如下步骤进行:a.在晶圆的正面固定覆盖一层玻璃(6),通过研磨机将晶圆从背面研磨减薄至设定尺寸厚度,再对晶圆背面进行等离子蚀刻直至晶圆背面的表面光洁;b.将晶圆背面用丙酮冲洗干净,再用气枪清除晶圆背面的残余丙酮;c.通过激光打孔机在晶圆背面按设计要求进行激光打孔,在晶圆背面按设计要求形成若干微孔(3),该微孔将晶圆正面部分的可导通处外露于晶圆背面形成若干导通点(2);d.对晶圆背面按设计要求进行电镀形成与导通点数量对应的金属线(4),该金属线连通导通点和晶圆背面需植焊球的地方;e.按设计要求在晶圆背面需植焊球的地方植焊球(5);f.将晶圆沿切割线(7)切割成单颗封装好的器件(8)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造