[发明专利]内埋芯片封装的结构及工艺有效
| 申请号: | 200910002582.6 | 申请日: | 2009-01-23 |
| 公开(公告)号: | CN101789380A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
| 发明(设计)人: | 府玠辰;欧英德;王永辉 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/498 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 一种内埋芯片封装的工艺如下所述。首先,提供一金属核心层,其具有一第一表面、相对于第一表面的一第二表面、连通第一表面与第二表面的一开口与多个贯孔。接着,将一芯片配置于开口中。然后,形成一介电层于开口与这些贯孔中,以将芯片固定于开口中。之后,分别形成多个导电通道于这些贯孔中,且这些导电通道由介电层的位于这些贯孔内的部分与金属核心层隔绝。接着,以增层法形成一线路结构于金属核心层的第一表面上,且线路结构与芯片以及这些导电通道电性连接。 | ||
| 搜索关键词: | 芯片 封装 结构 工艺 | ||
【主权项】:
一种内埋芯片封装的工艺,其特征在于,包括:提供金属核心层,其具有第一表面、相对于所述第一表面的第二表面、连通所述第一表面与所述第二表面的开口与多个第一贯孔;将芯片配置于所述开口中;形成介电层于所述开口与所述第一贯孔中,以将所述芯片固定于所述开口中;分别形成多个导电通道于所述第一贯孔中,且所述导电通道由位于所述第一贯孔内的所述介电层与所述金属核心层隔绝;以及以增层法形成第一线路结构于所述金属核心层的所述第一表面上,且所述第一线路结构与所述芯片以及所述导电通道电性连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





