[发明专利]半导体发光元件阵列和其制造方法无效

专利信息
申请号: 200880131591.9 申请日: 2008-10-17
公开(公告)号: CN102187477A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 比留间健之;原真二郎;本久顺一;福井孝志 申请(专利权)人: 国立大学法人北海道大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于使用MOVPE选择生长法在同一个基片上制造具有多个波长的半导体面发光元件。具体而言,提供一种半导体发光元件阵列,其包括:半导体结晶基片;配置在所述半导体结晶基片的表面的绝缘膜,其中所述绝缘膜被划分为2个以上的区域,并且在所述2个以上的区域的每个区域中分别形成有使所述基片的表面露出的2个以上的开口部;从所述基片的表面通过所述开口部向上方延伸的半导体棒,其在所述延伸方向上层叠n型半导体层和p型半导体层,具有p-n结;和与所述半导体结晶基片连接的第一电极,以及与所述半导体棒的上部连接的第二电极,所述半导体棒自所述基片表面的高度,按所述2个以上的区域的每个区域而不同。
搜索关键词: 半导体 发光 元件 阵列 制造 方法
【主权项】:
一种半导体发光元件阵列,其特征在于,包括:半导体结晶基片;配置在所述半导体结晶基片的表面的绝缘膜,其中所述绝缘膜被划分为2个以上的区域,并且在所述2个以上的区域的每个区域中分别形成有使所述基片的表面露出的2个以上的开口部;从所述基片的表面通过所述开口部向上方延伸的半导体棒,其在所述延伸方向上层叠n型半导体层和p型半导体层,具有p‑n结;和与所述半导体结晶基片连接的第一电极,以及与所述半导体棒的上部连接的第二电极,所述半导体棒自所述基片表面的高度,按所述2个以上的区域的每个区域而不同。
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