[发明专利]成膜设备以及成膜方法有效
| 申请号： | 200880114150.8 | 申请日： | 2008-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101842511A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 吉冈润一郎;堀江邦明;南部信政 | 申请（专利权）人： | 荏原优吉莱特株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 许玉顺;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在真空槽(3)内的第1成膜工作台(8)上配置有构成溅射装置的溅射装置(10)，在第2成膜工作台(9)上配置有蒸镀装置(11)。一边使转盘(4)旋转一边使溅射装置(10)工作来进行形成薄膜的溅射工序。在该溅射工序之后，使蒸镀装置(11)工作来形成薄膜。在溅射工序中，对蒸镀装置(11)进行冷却以使蒸镀材料不会蒸发或升华。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种成膜设备，其特征在于，具备：真空槽，槽内形成为真空；保持装置，配置在该真空槽内，保持并旋转作为成膜的对象的工件；溅射装置，在上述真空槽内配置有靶材料，在导入了溅射气体的气体环境下进行放电，从而使溅射粒子从靶材料飞溅出来，并使该飞溅出的溅射粒子堆积在工件上来进行成膜；蒸镀装置，设置在上述真空槽内，具有将蒸镀材料加热至规定的加热温度的材料加热机构，通过加热使蒸镀材料蒸发或升华并附着在工件上来进行成膜；以及控制机构，使上述溅射装置和上述蒸镀装置以择一的方式工作。
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