[发明专利]成膜设备以及成膜方法有效
| 申请号: | 200880114150.8 | 申请日: | 2008-10-30 |
| 公开(公告)号: | CN101842511A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
| 发明(设计)人: | 吉冈润一郎;堀江邦明;南部信政 | 申请(专利权)人: | 荏原优吉莱特株式会社 |
| 主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 许玉顺;胡建新 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 设备 以及 方法 | ||
1.一种成膜设备,其特征在于,具备:
真空槽,槽内形成为真空;
保持装置,配置在该真空槽内,保持并旋转作为成膜的对象的工件;
溅射装置,在上述真空槽内配置有靶材料,在导入了溅射气体的气体环境下进行放电,从而使溅射粒子从靶材料飞溅出来,并使该飞溅出的溅射粒子堆积在工件上来进行成膜;
蒸镀装置,设置在上述真空槽内,具有将蒸镀材料加热至规定的加热温度的材料加热机构,通过加热使蒸镀材料蒸发或升华并附着在工件上来进行成膜;以及
控制机构,使上述溅射装置和上述蒸镀装置以择一的方式工作。
2.根据权利要求1所述的成膜设备,其特征在于,
还具备闸门板,至少在上述溅射装置工作时,该闸门板被配置在上述真空槽内的热源和上述蒸镀材料之间,从而阻止来自上述热源的热量对上述蒸镀材料进行加热。
3.根据权利要求2所述的成膜设备,其特征在于,
将上述溅射装置工作时所产生的等离子作为热源,至少在上述溅射装置工作时,上述闸门板被配置在上述等离子和上述蒸镀材料之间。
4.根据权利要求1所述的成膜设备,其特征在于,
还具备对上述工件进行加热的工件加热机构。
5.根据权利要求4所述的成膜设备,其特征在于,
还具备闸门板,该闸门板用于隔断热量,并且在遮蔽位置和容许位置之间自由移动,在上述工件加热机构工作时位于遮蔽位置,在上述蒸镀装置工作时位于容许位置,所述遮蔽位置是该闸门板被配置在工件和蒸镀材料之间的位置,所述容许位置是该闸门板从工件和蒸镀材料之间退避从而容许上述蒸镀装置对工件进行蒸镀的位置。
6.根据权利要求2所述的成膜设备,其特征在于,
还具备对上述闸门板进行冷却的闸门冷却机构。
7.根据权利要求1所述的成膜设备,其特征在于,
上述保持装置用于保持多个工件。
8.一种成膜方法,其特征在于,包括:
收容工序,在真空槽内收容作为成膜对象的工件,并使真空槽内成为真空;
溅射工序,在导入了溅射气体的气体环境下进行放电,从而使溅射粒子从靶材料飞溅出来,并使溅射粒子堆积在收容于真空槽内的工件上来进行成膜;
蒸镀工序,在上述溅射工序之前或之后被执行,通过对蒸镀材料进行加热,使蒸镀材料蒸发或升华并附着在收容于真空槽内的工件上来进行成膜;以及
取出工序,将通过上述溅射工序和上述蒸镀工序而实施了成膜的工件从真空槽取出。
9.根据权利要求8所述的成膜方法,其特征在于,
上述溅射工序中,阻止来自真空槽内的热源的热量对蒸镀材料进行加热。
10.根据权利要求9所述的成膜方法,其特征在于,
遮断真空槽内的热源向蒸镀材料传递热量。
11.根据权利要求10所述的成膜方法,其特征在于,
通过配置在热源和蒸镀材料之间的闸门板来遮断热量。
12.根据权利要求11所述的成膜方法,其特征在于,
对上述闸门板进行冷却。
13.根据权利要求9所述的成膜方法,其特征在于,
对蒸镀材料的周围进行冷却。
14.根据权利要求8所述的成膜方法,其特征在于,
在上述溅射工序中,还具有对收容于真空槽内的工件进行加热的加热工序。
15.根据权利要求14所述的成膜方法,其特征在于,
在上述溅射工序中,使用于遮断热量的闸门板位于配置在工件和蒸镀材料之间的遮蔽位置,在上述蒸镀工序中,使上述闸门板位于从工件和蒸镀材料之间退避从而容许蒸镀的容许位置。
16.根据权利要求8所述的成膜方法,其特征在于,
在上述收容工序中,将多个工件收容在真空槽内。
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