[发明专利]用于卤化聚合物的稳定剂体系

摘要

本发明涉及用于含卤聚合物的稳定剂体系，包含：组分(A)，其为具有化学式(A)的单碳酸羟基二铝酸钙Ca_mAl₂(OH)_6+2(m-1)CO₃·n H₂O(A)，其中m＝3.8～4.2，n＝0～3，以及组分(B)，其具有化学式(B1)所示单体单元的索烃基-2，2’，2”-次氮基三乙醇高氯酸锂或钠配位聚合物(B1)，其中，Mt＝Li或Na，An＝OClO₃，q＝1，和/或高氯酸的季铵或叔铵或磷盐(B2)。本发明进一步涉及包含所述稳定剂体系的组合物和制品，和该体系和组合物的用途。

主权项

1.一种用于含卤聚合物的稳定剂体系，包含，组分(A)，其为具有化学式(A)的单碳酸羟基二铝酸钙Ca_mAl₂(OH)_6+2(m-1)CO₃*nH₂O    (A)，其中m＝3.8～4.2，n＝0～3，和组分(B)，其为具有化学式(B1)所示单体单元的索烃基-2，2’，2”-次氮基三乙醇高氯酸锂或钠配位聚合物(B1)其中，Mt＝Li或Na，An＝OClO₃，q＝1，和/或高氯酸的季铵或叔铵或磷盐(B2)。