[发明专利]用于卤化聚合物的稳定剂体系

权利要求书

1.一种用于含卤聚合物的稳定剂体系，包含，

组分(A)，其为具有化学式(A)的单碳酸羟基二铝酸钙

Ca_mAl₂(OH)_6+2(m-1)CO₃*n H₂O    (A)，

其中m＝3.8～4.2，n＝0～3，和

组分(B)，其为具有化学式(B1)所示单体单元的链式-2，2’，2”-次氮 基三乙醇高氯酸锂或钠配位聚合物

其中，Mt＝Li或Na，An＝OClO₃，q＝1。

2.如权利要求1所述的稳定剂体系，其特征在于，(A)是单碳酸十二 羟基二铝酸四钙或其水合物。

3.如权利要求1或2所述的稳定剂体系，其特征在于，(B)是链式-2，2’，2”- 次氮基三乙醇高氯酸钠。

4.如权利要求1或2所述的稳定剂体系，其特征在于，其还包含组分 (C)，它是选自以下组的至少一种化合物：取代的氰基乙酰脲、取代的6- 氨基尿嘧啶、取代的1，4-二氢吡啶、3-氨基丁烯酸酯和氢氧化钙。

5.如权利要求4所述的稳定剂体系，其特征在于取代的氰基乙酰脲是 1，3-二甲基氰基乙酰脲，取代的6-氨基尿嘧啶是1，3-二甲基-6-氨基尿嘧啶、 1，3-二烯丙基-6-氨基尿嘧啶、或5，5’-[C₄-C₁₈次烷基]-双-1，3-二甲基-6-氨基尿 嘧啶，取代的1，4-二氢吡啶是2，6-二甲基-3，5-双羧基月桂基-1，4-二氢吡啶，3- 氨基丁烯酸酯是1，4-丁二基双-3-氨基丁烯酸酯或2，2’-硫代双乙烷二基3- 氨基丁烯酸酯。

6.如权利要求1或2所述的稳定剂体系，其特征在于，基于组分(A)， 组分(B)的重量百分比为1～10％。

7.一种组合物，包括含卤聚合物和如权利要求1或2所述的稳定剂体系。

8.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，化学式(A)的化合物的 用量为0.01～3.0份。

9.如权利要求8所述的组合物，其特征在于，化学式(A)的化合物的 用量为0.05～1.5份。

10.如权利要求8所述的组合物，其特征在于，化学式(A)的化合物的 用量为0.1～1.0份。

11.一种组合物，包括含卤聚合物和如权利要求4所述的稳定剂体系， 其特征在于组分(C)的用量是0.10～10份。

12.如权利要求11所述的组合物，其特征在于组分(C)的用量是0.01～ 5.0份。

13.如权利要求11所述的组合物，其特征在于组分(C)的用量是0.01～ 2.0份。

14.如权利要求7所述的组合物，其特征在于它还包含至少一种下列化 合物：氢氧化镁和碱土金属脂肪酸盐、多元醇或糖醇或三羟基乙基异氰脲酸 酯、亚磷酸酯、缩水甘油基化合物、环氧脂肪酸酯、空间位阻胺、抗氧化剂、 UV吸收剂和光稳定剂、光学增亮剂、抗静电剂、抗微生物剂、颜料、填料、 发泡剂、润滑剂、增塑剂、抗冲改性剂、和加工助剂。

15.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，含卤聚合物是含氯聚合 物。

16.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，含卤聚合物是PVC。

17.一种制品，其包含权利要求7所述的组合物。

18.如权利要求17所述的制品，其特征在于它是木塑复合材料、箔、型 材、地板涂料、机动车辆零件、墙面涂料、软管、注塑模具、或电线外皮。

19.如权利要求1或2所述的稳定剂体系用于稳定含卤聚合物的用途。

20.如权利要求7所述的组合物的用途，其用于制备如权利要求17所述 的制品。