[发明专利]用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法无效
| 申请号： | 200880102843.5 | 申请日： | 2008-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN101785057A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 宇佐美由久;渡边哲也 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;B41M5/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在无机物质制成的基板上直接且容易地形成凸凹(凹坑图案)的方法。用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法包括以下步骤：在由无机材料制成的基板(11)上形成记录材料层(21)，所述记录材料层能够进行热模式热变形；通过向所述记录材料层(21)照射会聚光，形成多个孔(15)；以及在所述基板中形成与所述多个孔(15)对应的多个凹坑(16)，其中所述多个凹坑(16)是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层(21)作为掩模蚀刻而形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 图案 记录 信息 介质 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法，该方法包括以下步骤：在无机物质的基板的上方形成记录材料层，其中所述记录材料层具有热变形性热模式记录材料；通过向所述记录材料层照射会聚光，形成多个孔；以及在所述基板中形成多个凹坑，其中与所述多个孔对应的多个凹坑是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层作为掩模而蚀刻的。
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