[发明专利]用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法

权利要求书

1.一种用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法，该方 法包括以下步骤：

在无机物质的基板的上方形成记录材料层，其中所述记录材料层 具有热变形性热模式记录材料，所述热变形性热模式记录材料包含有 机染料；

在所述记录材料层上形成阻挡层；

通过向所述记录材料层和所述阻挡层照射会聚光，形成多个孔； 以及

在所述基板中形成多个凹坑，其中与所述多个孔对应的多个凹坑 是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层和所述阻挡层作 为掩模而蚀刻的。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述阻挡层被配置用于防 止所述记录材料层受损。

3.根据权利要求1所述的方法，

其中所述形成记录材料层的步骤包括：

在所述基板上形成掩模层；以及

在所述掩模层上形成所述记录材料层，并且

其中所述形成多个凹坑的步骤包括：

在所述掩模层中形成多个通孔，其中与所述多个孔对应的所 述多个通孔是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层作为 掩模而蚀刻的；和

形成所述多个凹坑，其中与所述多个通孔对应的所述多个凹 坑是在所述基板中通过使用其中形成所述多个通孔的掩模层作为掩 模而蚀刻的。

4.根据权利要求1所述的方法，该方法还包括：从其中形成所 述多个凹坑的所述基板除去所述记录材料层。

5.根据权利要求3所述的方法，该方法还包括：从其中形成所 述多个凹坑的所述基板除去所述掩模层。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，该方法还包括： 在其中形成所述多个凹坑的所述基板的上方安置保护层。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，该方法还包括： 在所述基板的上方安置反射层。

8.根据权利要求7所述的方法，该方法还包括：在所述反射层 的上方安置保护层。

9.一种其上以可光学读取的方式记录信息的介质，该介质是通 过根据权利要求8所述的方法制造的。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述形成多 个凹坑的步骤包括：通过干法蚀刻工艺对所述基板蚀刻。

11.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述形成多 个凹坑的步骤包括：通过各向异性蚀刻工艺对所述基板蚀刻。

12.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述形成多 个凹坑的步骤包括：通过反应性离子蚀刻工艺对所述基板蚀刻。

13.一种通过根据权利要求6所述的方法制造的信息记录介质。