[发明专利]扩散集成电阻器有效

专利信息
申请号: 200880023452.4 申请日: 2008-07-04
公开(公告)号: CN101730937A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 瑟吉·庞塔罗洛;多米尼克·伯杰 申请(专利权)人: 意法半导体有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/8605
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张春媛;阎娬斌
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 电阻器由形成于轻掺杂N型半导体阱(29)的部分(29)中的轻掺杂P型区域(35)形成,轻掺杂N型半导体阱在轻掺杂P型半导体衬底(21)上延伸,该阱通过向下延伸至衬底的P型墙(27)横向分隔,该阱的部分通过在阱和衬底之间的界线处的重掺杂N型区域(31)垂直分隔并通过重掺杂N型墙(33)水平分隔。二极管(45)位于电阻器的接线端(37)和重掺杂N型墙(33)之间,二极管的阴极与所述接线端相连接。
搜索关键词: 扩散 集成 电阻器
【主权项】:
一种半导体结构,包括:电阻器,所述电阻器由形成在轻掺杂N型半导体阱(25)的部分(29)中的轻掺杂P型区域(35)形成,该阱在轻掺杂P型半导体衬底(21)上延伸,该阱通过向下延伸至衬底(21)的P型墙(27)横向分隔,阱(25)的部分(29)通过在阱(29)和衬底(21)之间的界线处的重掺杂N型区域(31)垂直分隔并通过重掺杂N型墙(33)水平分隔,其中二极管(45)位于电阻器的接线端(37)和重掺杂N型墙(33)之间,二极管(45)的阴极与所述接线端(37)相连接。
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