[发明专利]生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,用于光催化剂的三氧化钨粉末,及光催化剂产品有效
申请号: | 200880008897.5 | 申请日: | 2008-03-11 |
公开(公告)号: | CN101641292A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 佐藤光;中野佳代;白川康博 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
主分类号: | C01G41/02 | 分类号: | C01G41/02;B01J35/02;A61L9/00;B01J37/08;A61L9/01;B01J37/14;B01D7/00;B01J37/34;B01J23/30 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 苗 征;于 辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本申请公开了生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,其特征在于所述方法包括:升华步骤,通过在氧气氛中使用电感耦合等离子体处理升华钨金属粉末或钨化合物粉末获得三氧化钨粉末,和热处理步骤,在氧化性气氛中在300℃到1000℃下热处理在所述升华步骤中获得的三氧化钨粉末10分钟到2小时。通过根据本发明的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法获得的三氧化钨粉末在可见光下具有优异的光催化性能。 | ||
搜索关键词: | 生产 用于 光催化剂 氧化钨 粉末 方法 产品 | ||
【主权项】:
1.生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,所述方法包括:升华步骤,通过在氧气氛中使用下列处理中的至少一种升华钨金属粉末或钨化合物粉末来获得三氧化钨粉末:电感耦合等离子体处理、电弧放电处理、激光处理和电子束处理;和热处理步骤,在氧化性气氛中在300℃到1000℃下热处理在所述升华步骤中获得的三氧化钨粉末10分钟到2小时。
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