[发明专利]生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,用于光催化剂的三氧化钨粉末,及光催化剂产品有效

专利信息
申请号: 200880008897.5 申请日: 2008-03-11
公开(公告)号: CN101641292A 公开(公告)日: 2010-02-03
发明(设计)人: 佐藤光;中野佳代;白川康博 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝高新材料公司
主分类号: C01G41/02 分类号: C01G41/02;B01J35/02;A61L9/00;B01J37/08;A61L9/01;B01J37/14;B01D7/00;B01J37/34;B01J23/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 苗 征;于 辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 生产 用于 光催化剂 氧化钨 粉末 方法 产品
【权利要求书】:

1.生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,所述方法包括:

升华步骤,通过在氧气氛中使用下列处理中的至少一种升华钨金属粉 末或钨化合物粉末来获得三氧化钨粉末:电感耦合等离子体处理、电弧放 电处理、激光处理和电子束处理;和

热处理步骤,在氧化性气氛中在300℃到1000℃下热处理在所述升华 步骤中获得的三氧化钨粉末10分钟到2小时,

其中所述三氧化钨粉末具有选自单斜晶体、斜方晶体和三斜晶体中的 至少两种晶体结构,

其中所述三氧化钨粉末的BET比表面积为8.2m2/g到820m2/g,

其中所述三氧化钨粉末通过图像分析获得的粒径分布(D90-D10)/D50 在0.3到2的范围内,并且

其中所述光催化剂是可见光光催化剂并且所述可见光的波长为390到 830nm。

2.权利要求1的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,其中作为 所述升华步骤中的原料的所述钨金属粉末或所述钨化合物粉末的平均粒径 为0.1μm到100μm。

3.权利要求2的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,其中在所 述升华步骤中在所述氧气氛中的所述升华通过电感耦合等离子体处理实 现,并将所述钨金属粉末或钨化合物粉末和载气一起吹入在所述氧气氛中 产生的等离子体中。

4.权利要求2的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,其中在所 述升华步骤中在所述氧气氛中的所述升华通过电感耦合等离子体处理实 现,并将所述钨金属粉末或钨化合物粉末分散在液体分散介质中而得到的 分散体吹入在所述氧气氛中产生的等离子体中,其中所述液体分散介质在 分子中具有氧原子。

5.权利要求4的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,其中所述 在分子中具有氧原子的液体分散介质含有51体积%或更多的水和醇中的至 少任意一种。

6.权利要求5的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的方法,其中所述 醇是选自甲醇、乙醇、1-丙醇和2-丙醇中的至少一种。

7.由权利要求1到6任意一项的生产用于光催化剂的三氧化钨粉末的 方法获得的用于光催化剂的三氧化钨粉末,其中所述三氧化钨粉末从BET 比表面积转化得到的平均粒径为1nm到100nm。

8.用于光催化剂的三氧化钨粉末,其含有90质量%和100质量%之间 的权利要求7的三氧化钨粉末。

9.光催化剂产品,其包含基板和在所述基板的表面上形成的光催化剂 覆盖层,其中所述光催化剂覆盖层通过用有机粘合剂或有机-无机复合粘合 剂粘合权利要求8的用于光催化剂的三氧化物粉末而形成。

10.权利要求9的光催化剂产品,其中所述光催化剂覆盖层的厚度为 0.1μm到3μm。

11.权利要求9或10的光催化剂产品,其中所述光催化剂覆盖层含有 10体积%或更多的所述用于光催化剂的三氧化钨粉末。

12.权利要求9或10的光催化剂产品,其中所述光催化剂覆盖层对波 长为550nm的光的透光率为50%或更大。

13.权利要求11的光催化剂产品,其中所述光催化剂覆盖层对波长为 550nm的光的透光率为50%或更大。

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