[发明专利]磁记录介质、磁记录介质的制造方法以及磁记录装置无效
| 申请号： | 200880000667.4 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101542602A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 汤泽亚希子;樱井正敏;镰田芳幸;白鸟聪志;木村香里;鬼塚刚 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/65 | 分类号： | G11B5/65;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;许向彤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据一个实施例，一种磁记录介质包括形成在基底上的凸起的磁图形；以及填充在所述磁图形之间的凹陷处并由含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金构成的非磁性材料。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，包括：形成在基底上的凸起的磁图形；以及填充在各所述磁图形之间的凹陷处并由含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金构成的非磁性材料。
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