[发明专利]磁记录介质、磁记录介质的制造方法以及磁记录装置无效
| 申请号： | 200880000667.4 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101542602A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 汤泽亚希子;樱井正敏;镰田芳幸;白鸟聪志;木村香里;鬼塚刚 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/65 | 分类号： | G11B5/65;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;许向彤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 以及 装置 | ||
1.一种磁记录介质，包括：
形成在基底上的凸起的磁图形；以及
填充在各所述磁图形之间的凹陷处并由含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金构成的非磁性材料。
2.根据权利要求1所述的磁记录介质，其中，所述多元素非晶合金的硬度大于等于5.5GPa，而小于等于20GPa。
3.根据权利要求1所述的磁记录介质，其中，所述多元素非晶合金由下面的式子表示：
Ni100-a-b-c-dTaaNbbTicHfd，
其中，0at％≤a≤40at％，5at％≤b≤40at％，0at％≤c≤40at％，以及0at％＜d＜30at％，或者
Cu100-x-y(Hf+Zr)xTiy，
其中，5at％≤x≤60at％，以及0at％≤y≤50at％。
4.一种磁记录介质的制造方法，包括：
在基底上形成凸起的磁图形；
用含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金所构成的非磁性材料来填充各所述磁图形之间的凹陷；以及
回蚀所述非磁性材料。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，重复进行所述非磁性材料的填充和所述非磁性材料的回蚀。
6.一种磁记录装置，包括：
根据权利要求1所述的磁记录介质；
使所述磁记录介质转动的主轴电动机；
致动器；
由所述致动器所驱动的致动器臂；以及
设置有读写头并由所述致动器臂进行支撑的磁头滑块，该磁头滑块被支撑为处于在所述磁记录介质的上方飞行的状态。
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