[发明专利]密封用膜及使用其的半导体装置无效

专利信息
申请号: 200880000239.1 申请日: 2008-01-24
公开(公告)号: CN101542721A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 川上广幸;新岛克康;友利直己;竹森大地;今井卓也 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;C08L63/00;H01L23/31
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟 晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种具有树脂层的密封膜,该密封膜的填充性和密合性优异,并提供该膜的制造方法和使用其的半导体装置,其中,所述树脂层含有下述(A)、(B)和(C),并且在80℃的流出量为150~1800μm。(A)树脂成分,其包含含有交联性官能团、重均分子量为10万以上且Tg为-50~50℃的高分子量成分(a1)以及以环氧树脂为主成分的热固性成分(a2);(B)平均粒径为1~30μm的填料;(C)着色剂。或者,本发明提供一种具有树脂层的密封用膜,所述树脂层含有上述(A)、(B)和(C),并且在B阶状态的膜的热固化粘弹性测定中的50~100℃的粘度为10000~100000Pa·s,该密封用膜的密合性、形状维持性优异,本发明还提供使用其的半导体装置。
搜索关键词: 密封 使用 半导体 装置
【主权项】:
1.一种具有树脂层的密封膜,所述树脂层含有下述(A)、(B)和(C),所述树脂层在80℃的流出量为150~1800μm,(A)树脂成分,其包含:含有交联性官能团、重均分子量为10万以上且Tg为-50~50℃的高分子量成分(a1);以及以环氧树脂为主成分的热固性成分(a2),(B)平均粒径为1~30μm的填料,(C)着色剂。
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