[实用新型]一种带有窗口片保护气路的反应腔有效
| 申请号： | 200820212008.4 | 申请日： | 2008-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN201236209Y | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 李跃松 | 申请（专利权）人： | 清溢精密光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/48 | 分类号： | C23C16/48;B01J19/12 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518057广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型适用于化学反应的密闭空腔装置技术领域，提供了一种带有窗口片保护气路的反应腔，包括一安装基座、透明窗口片，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，所述窗口片固定于所述安装基座上表面用以封闭所述倒锥形凹槽，其特征在于：所述安装基座上还开设有窗口片保护气进气口和与所述窗口片保护气进气口贯通的窗口片保护气抽气口。与现有技术中的反应腔相比，本实用新型可以避免反应腔中产生的沉积物污染窗口片，而且不需要频繁更换窗口片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带有 窗口 保护 反应 | ||
【主权项】：
1、一种带有窗口片保护气路的反应腔，包括一安装基座、透明窗口片，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，所述窗口片固定于所述安装基座上表面用以封闭所述倒锥形凹槽，其特征在于：所述安装基座上还开设有窗口片保护气进气口和与所述窗口片保护气进气口贯通的窗口片保护气抽气口。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
