[实用新型]一种带有窗口片保护气路的反应腔

说明书

技术领域

本实用新型属于用于化学反应的密闭空腔装置技术领域，尤其涉及一种带有窗口片保护气路的反应腔。

背景技术

在半导体器件、液晶、等离子、有机EL等显示器件、光掩膜制造等精密的激光微细加工领域(微米、亚微米、深亚微米级)，在生产时，半成品往往带有一些各种形式的缺陷，这些缺陷需要进行修补处理后才能变成合格的产品。修补技术有：聚焦离子束(FIB)修补、点胶(Dispensing)修补、激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition，LCVD)修补等。其中，激光化学气相沉积修补成本适中而且效果也满足使用要求。现有技术中的反应腔使用一段时间后，位于反应腔上表面中间的窗口片会受到反应腔中的激光化学气相反应产生的沉积物的污染，使得激光的能量因为窗口片的污染而减弱，这样反应腔中的激光化学气相反应效率降低；这样只有更换新的窗口片才能使反应腔中的反应正常进行，但这样既浪费窗口片又耗费工时。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种带有窗口片保护气路的反应腔，旨在解决现有技术中的窗口片易受反应腔中产生的沉积物的污染的问题。

本实用新型是这样实现的，一种带有窗口片保护气路的反应腔，包括一安装基座、透明窗口片，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，所述窗口片固定于所述安装基座上表面用以封闭所述倒锥形凹槽，其特征在于：所述安装基座上还开设有窗口片保护气进气口和与所述窗口片保护气进气口贯通的窗口片保护气抽气口。

与现有技术中的反应腔相比，本实用新型可以避免反应腔中产生的沉积物污染窗口片，而且不需要频繁更换窗口片。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的一种带有窗口片保护气路的反应腔示意图。

图中：

1-安装基座；

1a-静压空气轴承进气口；  1b-预压真空抽气口；    1c-反应源气进气口；

1d-窗口片保护气进气口；  1e-窗口片保护气抽气口；1f-反应废气抽气口；

1g-静压空气轴承节流喷嘴；1h-预压真空节流口；    1i-反应废气收集口；

1j-反应源气环形集中喷覆口；

2-薄膜加热片；

3-反应气体喷覆分配环；

4-透明材料窗口片；

5-透镜组；

6-激光束；

7-窗口片垫圈；

8-光掩膜工件；           8a-光掩膜待加工表面。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1，本实用新型实施例提供了一种带有窗口片保护气路的反应腔，包括一安装基座1、一透明的窗口片4，所述安装基座1中间开设有一倒锥形凹槽9，所述倒锥形凹槽9在安装基座1下表面中间形成一反应源气环形集中喷覆口1j，所述窗口片4固定于所述安装基座1上表面中间用以封闭所述倒锥形凹槽9，所述安装基座1两侧分别对称开设有窗口片保护气进气口1d和与所述窗口片保护气进气口1d横向贯通的窗口片保护气抽气口1e。窗口片保护气(如氮气)从窗口片保护气进气口1d进入倒锥形凹槽9，然后从窗口片保护气抽气口1e排出，这种保护气路可以使透明窗口片4在保护气的保护下免受反应腔中反应产生的沉积物的污染，使得激光的能量不会因为窗口片的污染而迅速减弱，这样连续性的激光化学气相沉积得以实现。