[实用新型]一种液晶显示器基板蚀刻浸泡装置无效
申请号: | 200820045187.7 | 申请日: | 2008-03-21 |
公开(公告)号: | CN201204199Y | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
发明(设计)人: | 蔡彦坚 | 申请(专利权)人: | 深超光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/77;H01L21/84;H01L21/311;G02F1/136;G02F1/1333 |
代理公司: | 东莞市中正知识产权事务所 | 代理人: | 侯来旺 |
地址: | 518000广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种液晶显示器基板蚀刻浸泡装置,包括蚀刻浸泡装置的外槽、内槽、基板传输装置、外槽内的液切风刀、集液槽和自动控制电路,在蚀刻浸泡装置外槽内上方设有喷洒装置,在内槽的入/出口处设有刮刀,在外槽的底部设有的排液孔、注液/排液孔,底部设有的排液孔、注液/排液孔分别通过集液管路、注液/排液管路连接供液压力调节管路和集液槽。它采用在基板蚀刻浸泡槽旁增设有一自动控制单元的供液压力调节管路,以控制对内槽停止注液时能维持加压泵的稳定输出,有效地节省蚀刻液,在基板蚀刻浸泡槽内还增设一刮刀,以对基板表面之蚀刻液进行有效的清除,解决了基板蚀刻浸泡槽的蚀刻液无谓耗损大而造成浪费的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 液晶显示器 蚀刻 浸泡 装置 | ||
【主权项】:
1、一种液晶显示器基板蚀刻浸泡装置,包括蚀刻浸泡装置的外槽(22)、内槽(32)、基板传输装置(36)、外槽内的液切风刀(40)、集液槽(42)和自动控制电路,其特征在于,在蚀刻浸泡装置外槽(22)内上方设有喷洒装置(36),在内槽(32)的入/出口处设有刮刀(38),在外槽的底部设有的排液孔(28)、注液/排液孔(34),底部设有的排液孔(28)、注液/排液孔(34)分别通过集液管路(58)、注液/排液管路(56)连接供液压力调节管路和集液槽(42)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造