[实用新型]一种真空镀膜的加热基片架无效
| 申请号： | 200820010150.0 | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN201158704Y | 公开（公告）日： | 2008-12-03 |
| 发明（设计）人： | 王云琴;赵科新;郭东民;赵崇凌;张冬;李重茂;徐宝利;高树爱;吕鑫淼;赵长存 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 许宗富;周秀梅 |
| 地址： | 110168辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及制备种类薄膜的设备，具体地说是一种用于承载基片的真空镀膜的加热基片架，包括蒸发源、传动组件、支撑组件及步进电机磁力转轴，步进电机磁力转轴安装在支撑组件上，蒸发源设置在传动组件上、并通过传动组件与步进电机磁力转轴连动。本实用新型的基片在镀膜过程中可旋转，提高了镀膜的均匀性，保证了膜层质量；靶材和基片之间的距离可以调节，针对不同的膜材可以选择不同的距离，从而扩大了靶材的选择范围，提高了镀膜效率；蒸发源的炉盘结构简单，很好地突破了电阻丝难以固定和束缚的难点，避免电阻丝因受热变形而脱开炉盘造成短路，延长了蒸发源的使用寿命，提高了蒸发源的可靠性；基片挡板对基片起到防护作用，屏蔽了污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 加热 基片架 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜的加热基片架，其特征在于：包括蒸发源(2)、传动组件、支撑组件及步进电机磁力转轴(13)，步进电机磁力转轴(13)安装在支撑组件上，蒸发源(2)设置在传动组件上、并通过传动组件与步进电机磁力转轴(13)连动。
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