[实用新型]一种真空镀膜的加热基片架

说明书

技术领域

本实用新型涉及制备种类薄膜的设备，具体地说是一种用于承载基片的真空镀膜的加热基片架。

背景技术

真空镀膜技术的应用已遍及各个领域，镀膜的方法有很多种，较为常用的是真空蒸发镀膜，是通过蒸发源加热使膜材蒸发。常用的蒸发源有电阻式加热蒸发源、电子束式蒸发源、空心热阴极等离子束蒸发源、感应式加热蒸发源等，其中电阻式加热蒸发源使用较多。作为真空镀膜重要的环节，蒸发源在设计时，需要注意以下几点：第一，蒸发源要使膜材有较高的蒸发率，并能存储足够的膜材；第二，膜材的蒸发率应能够容易控制；第三，蒸发源在长时间的工作中要具有可靠的稳定性；第四，蒸发源需有较长的使用寿命。现有的蒸发源其电阻丝难于固定和束缚，可靠性较差，使用寿命也不高，很难满足上述的要求。

而目前使用的基片架，靶材与基片是相对固定的，无论靶材选择什么材料，距离都不可调，因此限制了靶材的选择范围，也降低了镀膜的效率。此外，现有基片架在镀膜过程中，基片固定，镀膜均匀性差，质量不高。再有，镀膜裸露在外，很容易被污染，降低了膜层质量。

实用新型内容

为了解决上述现有基片架及蒸发源存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种基片托可旋转、镀膜均匀的真空镀膜的加热基片架。

本实用新型的另一目的在于提供一种蒸发源可伸缩的真空镀膜的加热基片架，可适用于不同的膜材。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：

本实用新型包括蒸发源、传动组件、支撑组件及步进电机磁力转轴，步进电机磁力转轴安装在支撑组件上，蒸发源设置在传动组件上、并通过传动组件与步进电机磁力转轴连动。

其中：所述支撑组件由第一、二支撑盘中间设置多个支撑杆构成，步进电机磁力转轴安装在第二支撑盘上；在第二支撑盘上还安装有直动拨叉，其上设有伸缩机构；伸缩机构位于第一、二支撑盘之间，一端连接直动拨叉，另一端由第一支撑盘穿出、并设有固定托，在固定托上均布有多个与蒸发源相连接的固定杆；伸缩机构为四连杆机构；所述传动组件包括第一连接杆、转动托、转动杆及第一、二齿轮，第一连接杆的一端与步进电机磁力转轴相连，另一端由支撑组件穿出、并连接第一齿轮，第二齿轮与第一齿轮啮合传动；转动托安装在第二齿轮上，在转动托上均布有多个与蒸发源相连接的转动杆；所述蒸发源包括炉盘、炉盘架、基片托、加热罩、隔热片及筒式隔热片，加热罩的底部与转动杆相连接，基片托固接在加热罩的顶部，与加热罩一起随转动杆旋转；炉盘架位于加热罩的内部、与固定杆相连接，外罩有筒式隔热片的炉盘安装在炉盘架的顶部，在炉盘与炉盘架之间设有隔热片；基片托上开有第一凹槽；炉盘上电阻丝的两侧均布有多个第二凹槽；在炉盘的中心开有热偶引入口，电阻丝引入、引出口分别位于热偶引入口的两侧；支撑组件上安装有磁力转轴，其通过第二连接杆与基片挡板相连接，基片挡板通过磁力转轴可绕第二连接杆旋转；在支撑组件上还安装有四芯引线组件，其上设有四个电极，其中两个连接加热电源及蒸发源上的电阻丝，另外两个连接温度传感器及温度显示仪。

本实用新型的优点与积极效果为：

1.本实用新型的基片在镀膜过程中可旋转，大大提高了镀膜的均匀性，保证了膜层质量。

2.本实用新型的靶材和基片之间的距离可以调节，针对不同的膜材可以选择不同的距离，从而扩大了靶材的选择范围，提高了镀膜效率；并且，伸缩机构运动灵活，伸缩距离大。

3.蒸发源的炉盘结构简单，设置的第二凹槽很好地突破了电阻丝难以固定和束缚的难点，避免电阻丝因受热变形而脱开炉盘造成短路，延长了蒸发源的使用寿命，提高了蒸发源的可靠性。

4.热偶固定在基片托的正下方，能够准确地测量出加热温度。

5.本实用新型的基片托上设置的第一凹槽，增大了热阻，减少了热传导，有效地起到了聚热的作用。

6.本实用新型的基片挡板对基片起到防护作用，屏蔽了污染，提高了膜层质量。

7.本实用新型结构简单、可靠性好，工作效率高。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图之一；

图2为图1中蒸发源的剖视图；

图3为图2中炉盘的俯视图；

图4为图3的A-A视图；

图5为本实用新型的整体结构示意图之二；