[发明专利]一种基于金属覆盖层的负折射人工材料有效
| 申请号： | 200810227029.8 | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101424758A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;胡承刚;赵泽宇;陈旭南 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/10;G03F7/00;C23C14/24;C23C14/18 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢 纪 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种基于金属覆盖层的负折射人工材料，其特征包括以下步骤：(1)选择石英基片，并将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层高纯SiO2膜；(2)在高纯SiO2膜表面蒸镀一层铬膜，并在其上均匀涂覆一层光刻胶；(3)采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结构；(4)采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；(5)采用干法腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在高纯SiO2膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；(6)采用真空蒸镀技术，在SiO2光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，基于金属覆盖层的负折射人工材料制作完成。本发明具有制作简便，单层损耗小，单层正入射的特性，在磁共振、近场光学、隐身材料等领域具有很大的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 金属 覆盖层 折射 人工 材料 | ||
【主权项】：
1、一种基于金属覆盖层的负折射人工材料，其特征包括以下步骤：(1)选择石英基片，并将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层高纯SiO2膜；(2)在高纯SiO2膜表面蒸镀一层铬膜，然后在铬膜上均匀涂覆一层光刻胶；(3)采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结构；(4)采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；(5)采用干法腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在高纯SiO2膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；(6)采用真空蒸镀技术，在SiO2光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，一种基于金属覆盖层的负折射人工材料制作完成。
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